看新闻说是光阻有问题
一般而言，如果是光阻的问题，会有可能反应在1.CD 2.defect上。
正常来说，若是critical layers，些微的CD变化都会被逮到，因此我认为是critical la
yers 的机率并不高。
再来是non-critical layers
这些多半对CD不敏感，甚至几个nm到10几nm的偏差，都是属于正常范围。这种清况下，就
算CD飘一点，可能都还在control limit 内，不一定会low yield。
最有可能的是scum，也就说曝光显影后，还有残渣。如果是光阻厚度变薄，或是peeling
，defect scan/review就会逮到。因此，推测scum的机率大。
若是ETCH layers，scum可能会有defect scan看不的的bridge (被structure)挡住，扫不
到。
如果是IMP layer，打进去的离子浓就变低，电性上就可能是low yield。
如果真的是光阻出问题，我猜问题大概是这样。