想追台积电极难！ARM执行长叹：英特尔犯2大错“被时间惩罚”
2025年10月6日 15:56
▲▼英特尔（Intel）。（图／路透）
▲英特尔（Intel）。（图／路透）
记者陈莹欣／综合报导
美国政府大力推动各界对半导体厂英特尔（Intel）注资、补助等策略，引发半导体圈热
议，不过ARM首席执行长哈斯（Rene Haas）却认为，Intel过去犯下2项重大错误，陷入“
被时间惩罚”的状态，要想超越台积电已极为困难。
哈斯在知名科技Podcastt节目《All In Podcast》上指出，Intel过去有2件重大决策误判
铸成大错。其一就是专注于消费类CPU领域，错过行动装置生产周期，英特尔凭借“Atom
”低功耗SoC系列试图切入移动市场，但该系列芯片因性能和功耗平衡不足，未能满足苹
果对产品能效的严苛要求。
哈斯说：“台积电现在拥有世界上最好的晶圆厂，领先的公司，苹果、辉达、AMD，都选
择台积电制造。”
第2个错误在于迟迟未采用EUV（Extreme Ultraviolet lithography，极紫外光微影），
哈斯直言“他们还因制造 EUV 而受到惩罚。EUV 是一种用于制造地球上最小芯片的先进
方法。他们决定不以台积电10年前的速度进行投资，结果他们落后了。”
台积电自2015年起便投入EUV技术布局，而英特尔直到2021年才在Intel 4制程中引入该技
术，导致其7nm制程量产时间比台积电的5nm晚了近两年。
《WCCFtech》也引述哈斯观察，认为美国还没有培训一代人将制造业工作视为如此有利可
图和享有盛誉的工作。他认为，社会仍将晶圆代工厂的职务视为“哦，这是一份蓝领工作
，我不想走那种路。”
哈斯认为台湾对晶圆代工的工作者并不是这样看的，哈斯说：“在台湾，如果你说你在台
积电工作，你正在学习升职，这是一件非常有声望的事情。”
关键字： 半导体, 英特尔, 台积电, ARM, 晶圆代工
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