[新闻] 美中半导体管制持续交锋 对岸国产化进程

楼主: stpiknow (H)   2023-06-20 16:43:51
美中半导体管制持续交锋 对岸国产化进程则是关键
https://bit.ly/447GGFD
近期美中两强关系并未和缓,且在以半导体为主轴的科技战上持续交锋,而备受市场瞩目
则是美方透过盟友—日本对于半导体设备进行相关管制,即日本将先进芯片制造设备追加
列入出口管理的管制物件,其中涉及清洗、成膜、热处理、 曝光、蚀刻、检查等23个种
类的设备,除10~14nm先进制程设备外,也包括 45nm的成熟制程用光刻设备,并将于
2023年7月23日正式实行;至于中国的反制动作,尤以Micron(美光)在中国销售的产品未
通过网络安全审查之影响最受关注,对岸则是以Micron产品存在较严重网络安全问题隐患
,对中国关键资讯基础设施供应链造成重大安全风险,因而按照《网络安全法》等法律法
规,对岸关键资讯基础设施的运营者应停止采购Micron的产品;而在美中半导体管制持续
交锋下,中国国产化的基础与进程、美国握有的半导体重要生产要素将是谁能胜出的关键

全球前三大半导体设备供应国—美、荷、日皆对中国出口进行相关的管制,此将截断对岸
先进制程的发展,也波及部分成熟制程扩产的进程
若以美方联合盟友对中国采取半导体设备的管制进程来看,首先自2022年10月美禁止用于
生产16/14奈米以下制程逻辑芯片、128层或以上NAND、18奈米以下制程的DRAM的设备等出
口;尔后2023年3月荷兰将微影制程设备出口管制范围由极紫外光扩大至最先进的浸润式
深紫外光;日本新修正的限制政策则比市场原先预期严格,也就是10~14奈米先进制程设
备及小于45奈米的成熟制程用微影制程设备均受限制。事实上,由于2022年中国从日本进
口半导体设备占进口总额比例超30%,况且中国代表性的半导体设备商例如拓荆科技(薄膜
沉积)、中微公司(刻蚀、薄膜沉积)、北方华创(刻蚀、薄膜沉积、清洗、氧化)、盛美上
海(清洗)、华峰测控(测试)等尚无法完全替补海外供应商的缺口,因此难免让中国先进制
程的发展受到阻碍,也波及部分成熟制程扩产的进度。
此次中国制裁Micron事件,后续最终需留意美国的态度,韩国两大内存厂能否供应中国
所需则是重点
若以Micron在全球与中国的内存地位来说,2022年第四季Micron在全球DRAM、NAND
Flash的市占率分别来到23%、10.7%,各为第三名、第五名的供应商;若以在中国市场的
占比来看,Micron在中国DRAM、NAND Flash的市占率约在15%、22%,远不若韩国Samsung
加上SK Hynix合计的78%、49%,且总计2022年Micron中国业务占该公司的比重达10.7%。
代表中国关键资讯基础设施的运营者将停止采购Micron的内存产品,Samsung、SK
Hynix、长江存储、长鑫存储等厂商将迎来替代商机。
而中国期望除了让选边站还有些摇摆的韩国能有机会向中国来靠拢外,更重要的是扶植
NAND Flash业者的长江存储、DRAM厂商的长鑫存储等中国本土业者,意即美光在中国销售
遇阻,对岸内存厂商将会有更多机会进入下游客户的供应链体系,可望加速该类半导体
市场的国产化替代进程。但若以中国本土内存业者的技术实力与产能规模来看,其与国
际大厂间仍存有一定程度的差距,因而短期内长江存储、长鑫存储尚难以填补去Micron供
应链下的版图。事实上,目前难题则转向韩国,毕竟美国已向韩国政府施压,要求
Samsung、SK Hynix不要尝试填补Micron在中国留下的供应链缺口,显然在中国制裁
Micron事件下,韩国的应对显得有些尴尬。

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