三星积极取得EUV设备，韩国政府也增加对半导体等产业税收激励
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根据BusinessKorea报导，三星电子副董事长李在镕从荷兰半导体设备厂艾司摩尔 (ASML)
取得额外的极紫外光(EUV)微影曝光设备。
三星电子6月15日表示，李在镕于6月14日在荷兰Veldhoven的ASML总部会见了ASML执行长
Peter Wennink和技术长Martin van den Brink。双方高层就未来半导体技术、半导体市
场前景、EUV微影设备供应和中长期业务方向等进行了广泛讨论。三星电子则未透露相关
ASML将提供的额外EUV微影设备之细节。
报导指出，三星需要确保EUV设备的稳定供应，才能超越台积电，取得全球晶圆代工的龙
头地位。但目前只有ASML能生产EUV设备，且年产量有限。因此，三星电子想要取得比
ASML供应的最大客户台积电更多的设备并不容易。
三星电子自2000年代开始，就针对半导体制造技术和设备开发方面持续与ASML进行合作，
并于2012年透过股权投资，加强与ASML的合作伙伴关系。 2016 年11月，ASML的执行长
Wennink等高阶主管也拜访过三星电子，针对下世代EUV技术的发展现况进行说明，并就中
长期投资计划发表意见。
李在镕也在当地会见荷兰首相Mark Rutte，并讨论加强半导体代工能力和解决全球半导体
供应链问题的合作。同时也请求荷兰首相协助支持，以确保ASML 的EUV设备能够稳定供应
。在3月时，荷兰首相也与当时当选总统的尹锡悦针对半导体领域的合作方式进行讨论。
现在，韩国政府也决定增加对投资于半导体、电动车(EV)电池和疫苗产业的大公司的税收
激励方案。针对型大企业投资于三项国家战略技术相关设施的减税税率将提高两个百分点
。目前，大、中、小型企业适用的最高扣除率分别为10%、12%和20%。
韩国政府预计将国家战略半导体技术之数量从20个大幅增加，并对半导体产业的财政支持
将增加超过2兆韩元(约15.5亿美元)，以利更多投资的进行。