想请问在黄光区的先进问题
一说到曝光机台厂商，原本都只想到 ASML
尤其是在先进制程上，下一代 EUV 大概也得靠他们
不过最近好奇看 NIKON 193i 的机台，才发现性能和 ASML 差不多
以下是两家最新的193i机台比较：
ASML NXT:1980Di NIKON NSR-S631E
NA 0.85-1.35 1.35
Resolution ≦38nm ≦38nm
Field size 26*33 mm 26*33 mm
Overlay
(Single machine) ≦1.6 nm ≦1.7 nm
(Matched machine) ≦2.5 nm ≦2.3 nm
Throughput(96 shots) ≧275 WPH ≧270 (optional) WPH
Ref:
http://www.nikon.com/products/semi/lineup/pdf/NSR-S631E_e.pdf
https://goo.gl/EhfIsL
请问在业界这两台都有人在用吗?
还是先进制程主要仍以 ASML 居多? (N家几乎都日本半导体厂自用?)