[情报] 自强基金会 - 半导体制程实作课程

楼主: a6931791 (安安說誰呢?)   2016-03-01 10:44:32
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【课程名称】 半导体制程实作(2016/04/09~04/17)
【课程代码】 05O002
【上课时间】 2016/04/09起,至04/17日止,每星期(六、日) ,
        共2周, 09:00~16:00
【课程主旨】 借由简易的NMOS实做,学员可实际操作半导体相关的设备,
       如炉管、黄光、清洗蚀刻、量测及镀膜设备等,并于课程中
      做进一步相关设备及制程原理的解说,使初步接触半导体的
      学员能对半导体制程有更进一步的认识。
【课程特色】 1.可实际操作半导体制程相关设备。
       2.自己做好的晶圆可携带回家。
       3.结业证书符合"清大奈材中心"或"NDL"或
"交大奈米中心"申请设备自行操作要件之一。
【修课条件】 半导体最基础的实作,无科系或工作领域限制。
       但最好是大专以上理工科系毕或半导体、 微机电、
       面板相关工作,具半导体制程概念者为佳。
【咨询专线】 03-5722644 张营煌先生 yhchang@tcfst.org.tw
【课程网页】
http://edu.tcfst.org.tw/query_coursedetail.asp?tcfst=yes&courseidori=05O002
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【课程大纲】  1.第一节课(3小时)
         NMOS制程流程解说
         标准清洗
         晶圆旋干机旋干
        2.第二节课(3小时)
         高温热氧化制程Field oxide(SiO2) 500nm
         二氧化 硅厚度量测(nanospec)
         椭圆仪厚度量测
        3.第三节课(3小时)
         黄光制程,第一道光罩
         BOE湿蚀刻
         硫酸+双氧水去光阻
        4.第四节课(3小时)
         高温磷扩散
         含磷氧化层湿式蚀刻
         四点探针量测、二氧化硅蚀刻
         高温热氧化制 程Gate Oxide 50nm
        5.第五节课(3小时)
         黄光制程,第二道光罩
         BOE湿蚀刻
         硫酸+双氧水去光阻
        6.第六节课(3小时)
         溅镀铝金属膜PVD:Al Deposition(RF-Sputter)
         表面轮廓仪量测
        7.第七节课(3小时)
         黄光制程,第三道光罩
         Al Etching
        8.第八节课(3小时)
         晶圆切割
         雷射切割
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