想请教一下各位专业的前辈，小弟刚转行做IC设计的FAE，工作内容主要分析客户的异常，上这门课对工作的专业性有帮助吗?
PS: 我是做Driver ic的。
※ 引述《a6931791 (Allen Coak)》之铭言：
: ============================================================================
: 【课程名称】 半导体制程实作（2015/09/12-09/20）
: 【课程代码】 04O003
: 【上课时间】 2015/09/12起，至9/20日止，每星期(六、日) ，
: 共2周， 09:00~16:00
: 【课程主旨】 借由简易的NMOS实做，学员可实际操作半导体相关的设备，
: 如炉管、黄光、清洗蚀刻、量测及镀膜设备等，并于课程中
: 做进一步相关设备及制程原理的解说，使初步接触半导体的
: 学员能对半导体制程有更进一步的认识。
: 【课程特色】 1.可实际操作半导体制程相关设备。
: 2.自己做好的晶圆可携带回家。
: 3.结业证书 符合"清大奈材中心"或"NDL"或
: "交大奈米中心"申请设备自行操作要件之一。
: 【修课条件】 半导体最基础的实作，无科系或工作领域限制。
: 但最好是大专以上理工科系毕或半导体、 微机电、
: 面板相关工作，具半导体制程概念者为佳。
: 【咨询专线】 03-5722644 张营煌先生 yhchang@tcfst.org.tw
: http://edu.tcfst.org.tw/query_coursedetail.asp?tcfst=yes&courseidori=04O003
: ============================================================================
: 【课程大纲】 1.第一节课（3小时）
: NMOS制程流程解说
: 标准清洗
: 晶圆旋干机旋干
: 2.第二节课（3小时）
: 高温热氧化制程Field oxide(SiO2) 500nm
: 二氧化 硅厚度量测（nanospec）
: 椭圆仪厚度量测
: 3.第三节课（3小时）
: 黄光制程，第一道光罩
: BOE湿蚀刻
: 硫酸+双氧水去光阻
: 4.第四节课（3小时）
: 高温磷扩散
: 含磷氧化层湿式蚀刻
: 四点探针量测、二氧化硅蚀刻
: 高温热氧化制 程Gate Oxide 50nm
: 5.第五节课（3小时）
: 黄光制程，第二道光罩
: BOE湿蚀刻
: 硫酸+双氧水去光阻
: 6.第六节课（3小时）
: 溅镀铝金属膜PVD：Al Deposition（RF-Sputter）
: 表面轮廓仪量测
: 7.第七节课（3小时）
: 黄光制程，第三道光罩
: Al Etching
: 8.第八节课（3小时）
: 晶圆切割
: 雷射切割
: ============================================================================