※ 引述《good123456 (网军吃屎)》之铭言：
很多地方都已经披露，事后证明，这个中国做出EUV的消息是假的。
但是股板的资讯似乎还没有更新，所以来给大家说明一下这个中国EUV消息的后续。
: 根据X上的小道消息指采用LDP技术的EUV最近在华为东莞工厂预计2025 Q3进行测试，并预期
: 2026进行量产计画：
: https://reurl.cc/96gRyv
上面这个连结已失效，因为Twitter(X)上的原文已删除。
那原本的文章里讲些什么呢？文章里面有这一张图片，图片里有一个机器：
机器上面写着‘EUV光刻物镜装调干涉仪’
然后文章里面各种吹捧。顿时，网上各种自嗨：
‘一台机器低调亮相，上面汉字令欧洲不寒而栗：ASML大势已去？’
那为什么后来被披露，这个中国做出EUV的消息是假的呢？
首先，如果这个机器如果是EUV，那也太小了。
ASML真正的EUV是很大一台的。
而且，机器上的字就已经说明，
这是‘EUV光刻物镜装调干涉仪’不是‘EUV曝光机(光刻机)’
你不能因为机器上有EUV三个字，就说中国做出EUV。
用棒球来打个比方，
这就好像中国盖了一个‘全垒打墙’，然后你说中国打出‘全垒打’，这样是不对的。
是的，‘全垒打墙’中确实有‘全垒打’三个字。
但‘全垒打墙’是一个设备，用来衡量你打出来的球，是否可以被定义为‘全垒打’
并不代表你真的打出了‘全垒打’。
同理，‘EUV光刻物镜装调干涉仪’就是一个用来装配调教EUV光刻机中物镜的设备。
并不代表中国做出了‘EUV曝光机’。
当然，这并不是第一次，也不会是最后一次，
有心人士透过自媒体，揭露中国‘疑似’做出EUV的假消息。
之后我们应该还是会看到很多次
‘中国低调稳健，技术突破；欧美惊呆，又慌又怕’的消息。
但我们还是不得不说，中国在技术方面，确实有在进步。
做出EUV光刻物镜装调干涉仪，也表示中国在尝试攻克EUV相关的技术。
EUV并不是像‘移民火星’或是‘时光机器’一样，在人类的历史上，从来没有做到过
EUV除了ASML之外，日本的尼康也曾在2007-2008年左右就做出EUV的样机，
当时美日半导体科技战的背景之下，尼康的EUV一度只落后ASML约18个月，
但最后因研发成本昂贵，又无法在商业上取的进展，最终尼康放弃了EUV的开发。
也许中国在1-3年之内，像2007-2008年的尼康一样，做出一台EUV的样机，这并非不可能。
到时候，中美半导体的科技战，可能会上升到EUV的零部件，
因为ASML的EUV曝光机，其实大量采用其他美日欧公司的零部件，
EUV曝光机的零件包含但不限于：
光源系统：美国Cymer，日本Gigaphoton
镜头：德国蔡司
光罩：美国Photronics，日本DNP
双工作台：日本东京威力科创
真空仪器仪表：美国BrooksAutomation
离子注入机套件：美国AxcelisTechnologies
…等等
中国正在攻克EUV的光源系统，但是镜头是用蔡司的，其他零部件不可能全部都自己制造。
所以，到时候中美半导体的科技战，可能会上升到EUV的零部件的部分。