ASML强敌来了！陆“EUV关键技术”大突破 下一步国产曝光机？
https://www.chinatimes.com/realtimenews/20250118000073-260410
哈尔滨工业大学（哈工大）近日宣布，已成功研发出13.5奈米极紫外光（EUV）光源技术
，打破此领域由美国企业垄断的局面，也为大陆的国产EUV曝光机制造点亮了一线曙光。
此消息一出，对于掌握EUV曝光机主导地位的ASML（艾司摩尔）来说始料未及，该公司先
前曾强调，EUV机台的开发仰赖超过40个国家、数百家供应商技术的汇集。
外媒引述Northcape Capital投资组合经理Theo Maas指出，中国大陆尚未取得技术性突破
，其半导体技术仍落后台湾10年。
中芯国际虽在汽车产业和其他工业应用的成熟制程取得进展，但在7奈米以下先进制程晶
片仍远落后晶圆代工巨头数年。
不过，新加坡毕盛资产管理（APS Asset Management）创办人黄国辉对中芯国际抱持乐观
态度，认为其具备本土优势，有机会与台积电在全球竞争，一旦中国大陆突破国产EUV曝
光机技术，超越台积电的目标将不再遥不可及。
陆媒网易报导，哈工大攻克13.5奈米EUV光源技术，为大陆在该领域跨出关键一步。值得
注意的是，哈工大采用粒子加速产生紫光，与ASML采用的美国光源技术和德国徕卡的透镜
技术不同，展现更具突破性的创新。
除了EUV光源技术，EUV曝光机的生产制造还包括物镜系统、双晶工作台和控制系统等关键
技术。目前，哈工大已掌握7项曝光机核心技术，取得丰硕成果。
中芯国际和华为等大陆企业已实现7奈米芯片生产，但要突破 3奈米等更先进制程，仍需
仰赖EUV曝光机。哈工大的光源技术突破，虽仅是EUV设备自主化的第一步，未来有望为大
陆的国产芯片发展注入新的希望。
虽然我觉得还久
但不得不慎
中国大陆集中全力发展一个产业
还真的很有可能搞起来
B A T 其实都不是那么好搞的
之前看不起的几个产业也已经默默被称霸
看来要集中火力搞这块了
欧美台厂应该要更加紧努力合作
否则给中国大陆一两个五年计划，可能真的有所进展