原文标题：美国恐进一步限制 DUV 出口中国，三星与 SK 海力士忧受冲击
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s-on-duv-exports-to-china/
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发布时间：April 13, 2021 by Atkinson Tagged
(请以原文网页/报纸之发布时间为准)
原文内容：
针对全球性的芯片缺货问题，美国拜登政府才在 14 日邀集包括美国欧半导体设备大厂，
汽车制造厂商、以及台湾台积电与韩国三星等重量级晶圆代工厂共同参加会议，以讨论解
决由美国所主导的半导体供应链失衡的情况。而在此同时，韩国媒体报导，面对中国积极
发展半导体产业的态度，美国政府恐怕不仅将禁止极紫外光 （EUV） 曝光机的出口到中
国，恐怕连浸润式 ArF 深紫外光 （DUV） 曝光设备都将被列入禁止出口中国品项。
韩国媒体 《BusinessKorea》 的最新报导指出，美国拜登政府为限制中国在半导体产业
中的地位，日前由美国国家人工智能安全委员会提出了一项政策，希望禁止向中国出口包
括浸润式 ArF 深紫外光的曝光机在内的半导体制造设备。而如果一旦这项计画付诸施行
，则目前在中国设有大型晶圆厂的三星与 SK 海力士等韩国内存大厂担心，未来将可能
受到进一步的冲击。
报导指出，之前欧盟委员会曾经表示，为了限制中国在半导体产业的地位，美国政府必须
与荷兰及日本政府合作，限制相关半导体设备出口到中国。因为前一任的美国川普政府已
经阻止了荷兰商曝光机大厂艾司摩尔 （ASML） 出口 EUV 曝光机到中国的计画。所以，
一旦也限制浸润式 ArF 深紫外光曝光机出口到中国，则显示美国禁止更多的半导体设备
出口到中国去。
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而如果美国政府决定禁止包括浸润式 ArF 深紫外光曝光机在内的更多半导体设备出口到
中国，则目前在中国设有大型晶圆厂的韩国三星与 SK 海力士两家执内存市场牛耳的厂
商，担心其在中国的投资将会受到冲击。目前，三星在中国西安设有生产内存的晶圆厂
，目前正在生产第 6 代 3D V-NAND。而 SK 海力士则是将工厂设在中国无锡，目前该工
厂也在生产 10 奈米级的 DRAM。而在三星与 SK 海力士在中国的工厂中，目前都采用到
了浸润式 ArF 深紫外光曝光机。
报导进一步指出，目前中国政府正在与三星讨论，希望三星能及早完成在西安工厂相关投
资。另外，在 SK 海力士的方面，面对当前全球芯片缺货的情况，SK 海力士在中国无锡
工厂也正开始的相关的晶圆代工计画。因此，如果未来美国政府进一步收紧对中国出口半
导体设备的情况，有中国学者认为，美国将很难准许韩国企业在中国使用具备美国技术的
半导体设备。因此这对两家公司来说，在未来制造技术的发展上，恐将面临很大的麻烦。
（首图来源:shutterstock)
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韩国在中国市场获得的经济利益远超过台湾
韩国政府也是蛮亲中 鼓励韩商赴中投资
若真的发展成这样
恐怕韩国政府也要伤脑筋了