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经济日报 编译叶亭均／综合外电
日经新闻报导，日本信越化学工业公司将耗资约300亿日圆（2.85亿美元），将半导体厂重要材料光阻剂的产能调高20%，而且将首度在台湾生产，借此为先进芯片的生产扩大供应。
信越化学将在日本与台湾投资生产光阻剂的新设备。这种材料用于在硅晶圆上形成电路图案。
随着半导体材料领域的竞争加剧、加上用于5G装置、资料中心与其它应用的芯片需求成长，让信越化学这家日本具领导地位的光阻剂大厂提高产能。
日经报导指出，信越化学在台湾的云林厂将从2021年2月左右率先新增产能。届时，信越化学将开始在台湾生产这种用于适合用于先进极紫外光（EUV）光刻技术的光阻剂。以往这种材料只在日本生产。信越化学希望此举能满足台积电等客户攀高的需求。
在日本，信越化学位于新潟县直江津的工厂的新设备预定在2022年2月开始运作。在台湾的产能将提高50％，直江津工厂将提高20％，同时也会扩编员工人数。
信越化学也将为韩国、中国大陆与其他市场的客户提高产量。
其他日本光阻剂大厂，包括JSR与东京应化工业公司，也同时在日本与海外生产EUV光阻剂，而住友化学和富士软片（Fujifilm）则准备进入这一领域。
在全球光阻剂市场中，日本业者合计市占高达约80%，光是信越化学的市占就达20%至30%。
根据研调机构富士经济预测，光阻剂市场在2019年至2024年将成长60%至2,500亿日圆。
3.心得/评论：
前有ASML公布新EUV机型规格，2021年中发货；后有信越化学首度在台生产光阻剂，云林厂2021年2月完工量产，台湾产能增加50%
下午法说会又一片看好，GG准备喷喷了？