挑战ASML！佳能压印机NIL可攻2奈米、价格仅EUV的10％
2023/12/30 06:46
〔编译魏国金／台北报导〕瑞典媒体Gamingdeputy 27日报导，日本半导体设备巨头佳能（Canon）十月推出的奈米压印装置（NIL）FPA-1200NZ2C不仅可生产2奈米制程芯片，其耗电量与价格皆为对手艾司摩尔（ASML）深紫外光机（EUV）的十分之一，为小型半导体制造商开启生产先进芯片的新途径。
佳能半导体机器事业部长岩本和德（Kazunori Iwamoto）指出，奈米压印是将光罩上的半导体电路图压印在晶圆上，只要一次压印，就能在适当位置形成复杂的2D或3D电路图，因此只要持续改进光罩，甚至能生产2奈米芯片。
报导说，佳能的奈米压印技术可生产至少5奈米制程芯片。先进半导体设备市场目前由艾司摩尔主导，佳能的技术将持续缩小与艾司摩尔的差距。
对于设备成本，岩本和德估计，单次压印的成本可低至传统曝光设备的一半。佳能执行长御手洗富士夫（Mitarai Fujio）则表示，奈米压印的产品价格比艾司摩尔的EUV 将减少一位数，亦即前者为后者十分之一。
报导说，有别于以光学图像投影原理来运作EUV，佳能开发的奈米压印技术是将电路图直接印在晶圆上，制造出的芯片据称拥有可媲美最先进节点的几何图形，不过压印速度较EUV慢。
该新设备预计可让芯片制造商降低对芯片代工厂的依赖，同时让台积电、三星电子等芯片代工厂更可能大量生产芯片。佳能表示，该设备需要的功率仅为EUV的十分之一。
佳能之前聚焦于生产普通芯片，2014年起开始大力投资压印技术，并收购专门开发奈米压印技术的Molecular Imprints公司。岩本和德说，佳能已收到大量半导体制造商、大学、研究机构的询问，他们估计该技术可作为EUV的替代装置，并可为个人电脑与逻辑IC生产快闪存储器、DRAM等各种半导体。
https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4536163
Nikon和Canon以前确实有在制造曝光机啦，但先进制程就变成ASML的天下了