英特尔看淡曝光机对半导体重要性，外资下修 ASML 目标价
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2023 年末，曝光机大厂 ASML 向英特尔运交机首套 High-NA EUV 曝光机，型号为
TWINSCAN EXE:5000。业界普遍认为，High-NA EUV 将对先进芯片开发和下代处理器生产
发挥关键作用。不过最近又有变化，各晶圆代工厂都在减少依赖 High-NA EUV，延后导入
时间。特别是英特尔董事发言，让市场对 High-NA EUV 前景产生更多疑问。
Wccftech 报导，近期有投资机构下调 ASML 目标价，从 795 欧元降至 759 欧元，代表
每股获利减少约 5%，因 High-NA EUV 市场需求放缓，同时调低 ASML 2026 和 2027 年
营收预估。但 ASML 股票投资评等没有变仍为“买入”。
照不愿意透露姓名的英特尔董事说法，新电晶体设计如 GAAFET 和 CFET，可降低曝光机
重要性。这些设计是从四面包裹栅极，更偏用蚀刻去除多余材料，而不是增加晶圆曝光时
间以缩小电路尺寸。芯片生产时横向重要性日益增加，High-NA EUV 重要性就没那么重要
了。
长远看，人工智能（AI）浪潮带动芯片发展，投资机构对 ASML 产品的长期需求仍保持乐
观，因芯片普遍采用最新半导体制程，市场对曝光设备的需求仍处于上升趋势。ASML 7
月 16 日公布 2025 年第二季财报，届时可了解营收状况与未来营收变化，了解接下来全
球曝光机市场展望。