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原文：
前美光员工窃密投靠遭判刑 联电遭罚1亿元将提起上诉
晶圆代工厂联电 (2303-TW) 遭控协助中国晋华窃取美国内存大厂美光 (Micron)DRAM
制程案，台中地院今 (12) 日下午宣判，依违反营业秘密法等罪，判刑联电前员工何建廷
、王永铭，及协理戎乐天，联电也遭判处罚金新台币 1 亿元。对此，联电表示，还未收
到判决书，将依法提起上诉。
何建廷、王永铭原先在台湾美光任职，离职时带走机密文件至联电任职，与戎乐天成功研
发 DRAM 制程，台中地检署 2017 年依违反《营业秘密法》起诉联电公司、戎乐天，及何
建廷、王永铭，2018 年美国司法部也依经济间谍等罪，起诉联电、晋华、何建廷、王永
铭及曾任台湾美光总经理、联电副总的晋华总经理陈正坤。
台中地院经 2 年 9 个月审理，全案今日下午宣判，依违反营业秘密法等罪，判刑何建廷
5 年 6 月，并科罚金 500 万；王永铭 4 年 6 月，并科罚金 400 万；戎乐天判刑 6
年 6 月，并科罚金 600 万；联电被判处罚金新台币 1 亿元，可上诉智慧财产法院。
联电对此回应，除 1 亿元之外，应还有其他罚金，但目前还没收到判决书，待收到判决
书后，将依法提起上诉。