[讨论] 半导体四大Module操度? HTCOneE5566 PTT批踢踢实业坊

[讨论] 半导体四大Module操度?

楼主: HTCOneE5566 (LongLiveFor5566) 2016-07-30 13:55:45

各位大大好，
常常听到有人说fab端四大module就是超级屎缺，
怎么比也就是挑个没那么臭的来吃，
以EE来说常见的排名好像是 etch = litho > diffusion = thin film...
很少看到以PE的的角度来看，同为难兄难弟，排名也是差不多吗?
如果再细分module内如CVD、PVD、CMP等等，
有没有个屎度power rank可以排阿，颗颗。

作者: mlda888 ((╭￣3￣)╭♡ ) 2016-07-30 14:01:00

果页果页

作者: eric210 (老狗) 2016-07-30 14:01:00

56头嘘学生文

作者: ue28 (Tai) 2016-07-30 14:03:00

要怎样的忍受度才可以下去轮流体验然后排名那个最臭………

作者: skytakezou (karas) 2016-07-30 14:29:00

Litho=etch>diff>>thin flim>>>>non moudule

作者: burza (:D) 2016-07-30 14:30:00

都很操

作者: Azrael25 (Azrael25) 2016-07-30 14:31:00

etch>>litho...蚀刻很多东西是无法拉RWK的...而且Q time又紧

作者: benden (20%/y的蜗牛) 2016-07-30 14:33:00

etch>>>哪站鸟都是etch后抓到，INT:请蚀刻厘清

作者: SamMark (里维士官长) 2016-07-30 14:35:00

蚀刻>黄光>薄膜>扩散>研磨

作者: newfighter (you always ) 2016-07-30 15:06:00

暑假一堆学生po废文

作者: jennfeng (jennfeng) 2016-07-30 15:29:00

同一fab不同单位的设备或制程，彼此间薪资几乎无差异，问这算实际

作者: deltarobot (翻出来比大只小只啊) 2016-07-30 15:37:00

一句话看单位

作者: s861261 (smile~) 2016-07-30 15:59:00

Yed defect worse 先打黄光

作者: ssmmss (冏~~) 2016-07-30 16:08:00

看104开缺就知道黄光蚀刻背景的永远不怕找不到工作

作者: gn01192643 (锋) 2016-07-30 16:23:00

学生问题？站点的差异都不知道

作者: blacktruth (...) 2016-07-30 16:26:00

吃洞填洞都赛

作者: book2381 2016-07-30 16:43:00

远离产线有困难吗?

作者: Ec73Iwai ((￣□￣|||)a) 2016-07-30 17:12:00

Litho&Etch一定排前两赛的剩下的不用争了

作者: cyhoza (笨狗) 2016-07-30 17:13:00

蚀刻说第二只有黄光敢说第一，你觉得咧？

作者: riddle1304 (- .- ) 2016-07-30 17:23:00

ETCH....其他看不到车尾灯

作者: xcri0922 (蛇) 2016-07-30 17:25:00

CVD>PVD>CMP

作者: wvvw111517 (tsen) 2016-07-30 17:42:00

CMP有这么爽? 感觉不出来...

作者: potsticker (往事只能回味) 2016-07-30 17:45:00

有些化学站挂在扩散部门，算隐藏版吗？ XD

作者: Vencol (Vencol) 2016-07-30 18:31:00

酸槽 imp 管子一家亲

作者: SamMark (里维士官长) 2016-07-30 18:31:00

扩散其实也有分RCA Furance IMP 且都几乎互不相干

作者: vilia0227 (Supreme) 2016-07-30 18:46:00

学生文滚

作者: march30201 (barabara) 2016-07-30 19:03:00

黄光第二赛谁敢喊第一？

作者: foreverkn (时间是最好的疗剂) 2016-07-30 19:04:00