Re: 后摩尔定律 半导体的未来

楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-20 00:49:26
※ 引述《zcliu026 (中港阿志)》之铭言:
: 刚好翻到这篇旧文 里面有些预测现在看起来似乎有点失准
: 例如文中提到2022年 CMOS的发展就会走到物理极限11nm
: 不过现在看来这个所谓的"物理极限" 很有可能在明年就可以达到
: 而且还很有机会在往下走XD
: 没有要吐槽原po的意思 毕竟以当时的观点来看 原po说的其实算中肯
: 只是没料到科技的发展如此神速 一切都让人始料未及
: 有没有专业的大大要评论一下的
zcliu026大您误会了
ITRS 所说的 11 nm 是 "Physical gate length",
就是芯片切开来看到的真实宽度,
你提到要量产的 10 nm,只是个名字,
或者说是 "drawn gate length",电路设计时让你画爽的...
网络查一下,就会看到 Intel 22 nm 产品,
gate pitch 是 90 nm,gate length 是 30 nm,(咦?)
22 nm 既不是 half-pitch,也不是 gate length,
只是个名字......。
事实上,gate 微缩的物理与制程问题都已经遇到了,
因此各家的 gate length 不一定照着摩尔定律缩,(每代0.7x)
甚至连 gate pitch 都没乖乖缩,
真正照摩尔定律缩的,只有你看到名字而已。
所以,要做工程相关的讨论,
还是要看真正的gate length才准。
作者: santorini (圣托里尼)   2016-04-20 01:01:00
等效这么久了他还不知 何必解释
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-20 01:09:00
你讲的也不是重点 摩尔定律真正要讲的是成本poly pitch才是真正关键
作者: sdbb (帮我泡杯卡布奇诺)   2016-04-20 01:11:00
楼上教主
作者: NSYSUEE (Monkey)   2016-04-20 01:12:00
楼上教主?
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-20 01:14:00
照教主这样讲 metal pitch, fin pitch 都是关键我只是要指出不能只看世代名称来断定摩尔定律的存续
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-20 01:20:00
楼上你讲的还是不对摩尔定律在讲的东西是成本metal pitch跟fin pitch对成本的影响远不及poly pitch
作者: GodIronman (格林皮卡丘a铁)   2016-04-20 01:23:00
感恩教主,赞叹教主!!我是忠实信徒!!
作者: feverh (阿咪老师音乐请下)   2016-04-20 01:25:00
教主认真说话的样子好迷人
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-20 01:27:00
你电路只画 poly ? poly pitch 充其量只影响一个方向微缩你要达到微缩降成本 当然要搭配 metal 和 fin pitch
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-20 03:08:00
无聊 你觉得fin pitch缩到多小可以影响inv size?digital flow谈gate count谈transistor count谈poly pitchmetal pitch跟fin pitch提到的机会都小很多 为舍摸自己想一下就懂惹 别自己在那边乱猜
作者: mmonkeyboyy (great)   2016-04-20 03:27:00
去 google nature最新那篇news就有写了是钱的问题XDthe chips are down for moore's law
作者: eric03032001   2016-04-20 06:27:00
的确是钱问题 摩尔定律=生产成本降低
作者: konora (目标可以再高点)   2016-04-20 06:57:00
主要是poly pitch,但10nm以下DFF size 也会受到metal pitch限制而需变大。
作者: zzzxxx382 (洗洗睡)   2016-04-20 07:19:00
长知识
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-20 07:23:00
教主别逗了... poly pitch 决定 INV cell area 的宽度压缩高度就要借由缩小 fin 与 metal pitch 来达成在比较各家产品时 最基本的就是先看 poly fin metal 的搭配
作者: ggover (凋零)   2016-04-20 07:56:00
,,,,
作者: PUTOUCHANG (自己的废文自己发)   2016-04-20 09:16:00
说中文好吗
作者: kess (台积冯迪索)   2016-04-20 09:39:00
板上有GG星人可以参战吗?
作者: andyxstussy (destroy)   2016-04-20 10:16:00
学生我来吸经验值了
作者: yudofu (豆腐)   2016-04-20 10:56:00
摩尔定律只是预测数量的成长,有管到里面长怎么样,制程要多少nm吗?
作者: justinjan (justinjan)   2016-04-20 11:04:00
什么教主,量子处理器才是未来
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-20 11:32:00
zenta 你没碰过finfet就不要拿出来给大家笑惹gate height影响因素很多 fin pitch顶多mos部分y重点是 你觉得fin pitch很好缩吗?
作者: eric03032001   2016-04-20 12:27:00
Yodofu也懂?
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-20 13:05:00
说到这葛metal优 很多人都忘惹 好几年前gg刚弄finfet那时候还叫14nm 结果就是因为metal的问题 改拿20来套改叫16 当初我在某篇推文底下爆卦 还有人不信呛我
作者: ricky764 (孔)   2016-04-20 13:46:00
正解wwww
作者: sark4566 (rk)   2016-04-20 19:01:00
这已经很白话了啊怎么还有人说说中文好吗XD
作者: mlda888 ((╭ ̄3 ̄)╭♡ )   2016-04-20 19:03:00
信教主得永生ob'_'ov
作者: mercurycgt68 (发芽的吉它手)   2016-04-20 20:15:00
妈我来拜教主了
作者: whsh3310 (QQTTQQ)   2016-04-20 21:09:00
我觉得Zenta/obov其实都没说错 只是看的东西不同obov讲的po pitch是最终结果 fin/metal pitch只是其中
作者: antony511 (pan)   2016-04-20 21:34:00
不能同意obov再多
作者: centra (ukyo)   2016-04-20 21:55:00
反正现在也是拿 10 来套 7 啊 说法人人会喊的
作者: Samael (炽天使(Male))   2016-04-20 22:12:00
7的yield已经赢10了
作者: w60904max (自宅警备队员)   2016-04-20 22:21:00
7的RD team 就是强 元祖团队就是猛
作者: jumpout (我跳!)   2016-04-20 22:41:00
但是7的电阻值...
作者: realchic (T-rex怎么念)   2016-04-20 22:45:00
7 + 16 >>>>>> 10 + 20
作者: kerkerker (KerKer)   2016-04-20 22:55:00
老曹 VS 老吴!
作者: apoenzyme0 (apoenzyme)   2016-04-21 00:18:00
GG的16poly pitch比20大..
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-21 09:36:00
我就是在做FinFet的 往10 7 5 哪一代 fin pitch 没往下缩除GG 20->16外, 哪一家公司的产品这三个pitch没一起缩?微缩cell size这三个东西就是要一起配合而且教主..我讲的是cell height, 为什么扯到gate height ?fin pitch 影响MOS大小, 也影响N/P距离,一组CMOS就撑大啦
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 11:47:00
我说的gate是logic gate很简单的问题喇 作个dff poly pitch少10%跟fin pitch少10%哪个对area影响比较大?当然所有的东西对area都有影响 但是影响多少排序很明显你如果有在做 也知道哪种好缩哪种难缩你回去看看你开头那葛gate length 还不觉得自己没概念乱屁?
作者: OSDim (I'm So Sorry)   2016-04-21 12:50:00
要活就要战 ob'_'ov
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-21 21:51:00
教主你去切14/16看看gate length多少啊?我说tech node数字不等于gate length 是现实,你在这里放再多屁也切不出14nm的gate length另外,很难缩不用你讲大家都知道...fin 有深宽比的问题poly窄metal gate很难填,然后cut的overlay也难啊~foundry跟IDM现在都在成本、微缩面积、效能上想办法平衡你的dff,如果NP space跟着fin pitch一样缩10%,那结果就是两个cell size都一样缩10%啊,只是缩不同方向而已,搞笑
作者: SRT0619 (路人)   2016-04-21 22:39:00
zenta大讲的很精辟,教主的cell architecture不及格哦
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 22:42:00
"如果NP space跟着fin pitch一样缩10%" 这你说缩就缩欧
作者: SRT0619 (路人)   2016-04-21 22:42:00
metal pitch需要跟fin pitch 有公倍数的关系,std-cell的高度(例如9T)又是取决于metal pitch然后,back-end routing area又跟metal pitch 有强烈的正相关在ARM core 的design,metal pitch 的重要性甚至大于polypitch(你可以问问公司的APR工程师)
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 22:47:00
SRT0619 我直接问你八 你今天缩fin pitch 同样std cell效能能用ㄇ这就好笑惹 你说的是哪家的arm core还有不要忘惹 当代soc最占面积的早就不是cpu core惹优
作者: SRT0619 (路人)   2016-04-21 22:56:00
fin pitch 通常在研发定案后就不会轻易再动了,poly pitch也差不多但可以撑大,唯一自由度比较高的是metal pitch,跟fin number
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 22:57:00
你说不会轻易再动的东西 那还提出来干嘛实务上就是 大客户会去呛ploy pitch foundry就去想改结果就是能玩的先从poly pitch开始
作者: SRT0619 (路人)   2016-04-21 23:00:00
缩 poly pitch 是跟良率过不去,速度也会变慢,不是你想缩就可以缩
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 23:01:00
起码比fin pitch好谈客户找foundry靠北的排序 历史上十之八九都从poly pitch开始吵整个产业客户方这方面的人员也都从这里开始动你还不觉得poly pitch比其他重要ㄇ?
作者: SRT0619 (路人)   2016-04-21 23:14:00
这就是客户需要重新检视的地方,以A9来说吧,GG poly pitch 90nm, 三爽是78nm 小了15%, 数字很漂亮吧!结果呢?面积比GG是小了9%,但速度慢10%,良率更是一半都不到,这样有比较好?
作者: obov (来嘘苍真)   2016-04-21 23:33:00
那葛我不能讲太多QQ
楼主: Zenta (忙碌的接线生)   2016-04-22 00:02:00
S大专业 讲得这么明白NP space通常会跟fin pitch一起缩啊 on-grid是目前的主流但也会有没 on-grid 的啦.. 你以后就知道了

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