※ 引述《scitamehtam (新竹恐牙狼)》之铭言：
: ASML强敌来了！陆“EUV关键技术”大突破 下一步国产曝光机？
: https://www.chinatimes.com/realtimenews/20250118000073-260410
: 陆媒网易报导，哈工大攻克13.5奈米EUV光源技术，为大陆在该领域跨出关键一步。值得
: 注意的是，哈工大采用粒子加速产生紫光，与ASML采用的美国光源技术和德国徕卡的透镜
: 技术不同，展现更具突破性的创新。
https://www.zhihu.com/zvideo/1686851994256707585?utm_psn=1863967609810202624&utm_id=0
新闻所写的用粒子加速产生紫光，上面影片有对岸博主解释了，不过下面留言清一色都在吐槽打脸博主 哈哈
这方面我外行不予评论
另外这周的新闻哈工大团队确实有获得科研奖项，但具体内容是什么就不得而知了。
https://i.imgur.com/FIEsXHf.jpeg
底下留言超好笑：
‘’专家的正脸就不要公开了吧，容易遭暗算‘’