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美国ITC拟对半导体化学浆料Optiplane进口禁令 对英特尔影响大
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发布时间：
2021年12月10日
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原文内容：
美国国际贸易委员会（ITC）拟停止进口所谓的化学机械平坦化浆料（产品名称Optiplane
）出售。然而，杜邦的罗门哈斯（Rohm&Haas）部门在台湾和日本生产这些产品，因而被
指控侵犯了总部位于伊利诺伊州的CMC Materials Inc.拥有的专利技术US 9,499,721（
Colloidal silica chemical-mechanical polishing composition）。该案件（337-1204
），ITC原定于12月9日晚宣布其最终决定，但推迟到12月16日再宣布。
英特尔告诉ITC委员会，“在没有24个月过渡期的情况下，禁止来自美国半导体芯片制造
生产线的Optiplane浆料，可能与国家安全和经济利益相冲突。”
如果，禁令获得批准，它可能面临将一场晦涩难懂的法律战风险。
本案起始于2020年7月，正式对某些化学机械平坦化浆料及其成分进行调查（337-1204）
。该调查基于伊利诺伊州奥罗拉市Cabot Microelectronics Corporation于2020年6月1日
提起的投诉，称在向美国进口和销售某些化学机械平面化产品时违反了1930年关税法第
337条侵犯原告主张的专利的泥浆及其成分。 投诉人请求美国国际贸易委员会发出有限排
除令和停止令。美国国际贸易委员会在本次调查中确定了以下被诉者：
DuPont de Nemours, Inc.，位于德国威尔明顿；
Rohm and Haas Electronic Materials CMP Inc. of Newark, DE；
台湾桃园市罗门哈斯电子材料 CMP Asia Inc. (d/b/a Rohm and Haas Electronic
Materials CMP Asia Inc., Taiwan Branch (USA))；
台湾苗栗罗门哈斯电子材料亚太有限公司；
日本东京罗门哈斯电子材料株式会社；和
马萨诸塞州马尔堡的罗门哈斯电子材料有限责任公司。
本案调查技术侵权，指出被诉人产品Optiplane利用CMC最先进的二氧化硅粒子技术，而研
磨液即是透过二氧化硅粒子以研磨半导体层，CMC旗下iDiel系列产品也是采用这种技术。
调查期间，一名ALJ法官表示，在海外制造的元件侵犯了Cabot的专利，并驳回了杜邦主张
该专利无效的论点。
英特尔表示，在半导体制程的不同步骤中，都会使用到化学机械研磨液，且只要使用的研
磨液不同，即使仅有细微差异，也会对产线造成极大影响。因对全球半导体短缺的担忧，
这将更打击全球经济。尤其，ITC禁令可能对英特尔的伤害比一些竞争对手更大，因为这
家总部位于加州更依赖在美国的工厂。反而拥有亚洲工厂的制造商，将不会受到这一变化
的影响。
但是，ITC的律师在这些案件中代表公共利益第三方，他们支持英特尔呼吁将任何进口禁
令推迟24个月。这将为英特尔过渡到可接受的非侵权替代品，提供足够的时间。然而，
Cabot表示，英特尔和杜邦只是以芯片短缺为借口，以避免进口禁令。
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美国ITC针对半导体制造使用的化学浆料展开调查，进口有可能被限制，英特尔担心这会
加重全球芯片短缺情形。