1.原文连结：
https://www.wealth.com.tw/home/articles/29691
2.原文内容：
进入后摩尔时代，极紫外光(EUV)微影成为推动先进制程向前迈进的关键技术，
目前包括台积电(2330)、三星(Samsung)、英特尔(intel)等大厂也积极导入EUV。
据供应链消息，2021年ASML(艾司摩尔)EUV设备出货量从40台起跳，
法人看好ASML供应链的帆宣(6196)、家登(3680)、公准(3178)等有望持续受惠。
台积电从7+制程开始导入EUV技术，跨入新一制程世代，
每片晶圆所采用的EUV光罩层数也越来越多。
业内分析，台积7+大约需要2~4层EUV光罩层、5奈米约12~14层，
3奈米更需要到24层，可见EUV的重要性；
台积5奈米已在南科顺利量产，而3奈米的生产基地也在南科，台南可说是EUV重镇。
Intel、三星也积极布建EUV产能，加上SK海力士等内存大厂相继导入EUV，
均将支撑EUV的未来需求。
现在市场已知的EUV供应链，包括光罩盒供应商家登、
EUV设备模组代工厂帆宣、零组件供应商公准等。
帆宣目前在手订单约243亿元，订单年见度直透年底，
法人看好今年营收可望双位数成长，整体营运表现将再缔新猷。
3.心得/评论：
台积、Intel、三星、SK海力士、美光都积极在发展EUV技术，
这个应该是未来先进制程的关键中的关键，
Intel的7奈米一直做不出来，就是因为卡在EUV技术不够，
台积电能发展先进制程的7奈米、5奈米、3奈米技术靠的就是EUV技术，
因此能提供EUV相关零组件的供应商，
帆宣(6196)、家登(3680)、公准(3178)，
因为这是巴菲特所称有护城河的门槛，
应该可以用较高本益比来看。