https://www.leiphone.com/news/201811/8uGdqI4Z63FAipyX.html
最近“我国成功研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备”的新闻刷屏了。有
些人欢欣鼓舞，有些人不屑一顾。那么这个装备到底实力如何，牛到底牛在哪儿？
先回答大家最关心的两个问题：
1、我们可以实现芯片彻底国产化了吗？
答：暂时还不行。
2、不吹不黑，这个装备真的这么厉害吗，还是只是吹牛？
答：确实很厉害。
很多人只盯着新闻里22nm这个指标，其实大家要关注的是“365nm的光源，单次曝光线宽
可达22nm”。注意到我加黑的那几个关键词了吗？22nm指标虽然很棒但是业界早就做过
了，到底哪里厉害呢？所以关键是用365nm的光源单次曝光做到22nm，懂点光学的就知道
这意味着什么：打破了传统的衍射极限。
所以在我看来，这台机器最大的价值是验证了表面等离子体（SP）光刻加工的可行性。
这台SP光刻机与ASML光刻机对比怎么样呢？举个不恰当的例子吧，这就像是初期的枪械
与最厉害的弓箭的对比。早期枪械，比如火铳，无论是射击精度还是射击距离都远远比
不上厉害的弓箭，但是如今的狙击枪早已把弓箭甩开十万八千里了，这就是原理性的胜
利。
要理解刚才说的这个“原理性的胜利”到底是怎么回事，我们首先得回顾一下以ASML为
代表的传统光刻机是怎么做的。
上面是ASML光刻机简单的原理图，抛开复杂的监测设备不谈，最核心的原理就是通过物
镜系统将掩膜版上的图案进行缩印成像。涉及到成像过程，就不得不考虑光的衍射极限
。即便抛开所有的几何像差，由于衍射的作用，一个无限小的点成像后也会变成一个弥
散斑，被称为“艾里斑”。因此实际光学系统成像的分辨率就是两个艾里斑恰好能够分
开的距离。
所以由于衍射效应，成像分辨率会受到限制，最终的分辨率取决于波长、数值孔径等参
数，波长越小、数值孔径越大分辨率则越高。所以ASML这些年来主要的研究方向就是利
用更短的波长（近紫外-深紫外-极紫外）、增大数值孔径（更复杂的物镜、液体浸没）
。但是每进一步都变得更加艰难，对系统设计、加工装配、误差检测等等诸多方面都提
出了更为苛刻的要求，成本也越来越高昂。
那么表面等离子体光刻又是怎么一回事呢？表面等离子体指的是一种局域在物质表面的
特殊的电磁波，随着离开物质表面距离的增大迅速衰减，一般认为波长量级以上的区域
就不存在了。
更为神奇的是，虽然表面等离子体波是由其他电磁波激发的，但是波长会被极大地压缩
，而压缩的比例取决于材料的电磁性质等参数。
这就意味着，利用表面等离子体波进行光刻时，从原理上就不在受到传统衍射极限的限
制了。
在光刻机研制方面，我们一直有两个选择：沿用ASML的老路走一遍，还是另辟蹊径通过
新原理弯道超车？我们国家目前两个选择都在做。而这台SP光刻机的研制成功，就是让
我们看到了弯道超车的可能性。其实从原理上，这简直就不是弯道超车了，而是在别的
人还在绕山路的时候，我们尝试着打了一条隧道……虽然还没有完全挖通，但曙光就在
眼前了。
心得：
这个报道的是SP光刻机，是做光电器件类的器件和芯片，不是做手机和电脑芯片的。的
确不是通用芯片光刻机。但光电器件，也很重要不可或缺。
它的意义在于
中国在光电器件类的器件和芯片上领先。这个光电器件也很重要，光电技术，是电
子技术的重要组成部分。
那么，中国大陆和西方，就形成了相互依赖。
也就是说
如果西方在通用芯片技术上，比如说在手机电脑芯片上，卡住中国，中国会两眼一
抹黑，很糟糕。那么中国也可以在光电器件技术上卡住西方，那么美国和西方也会两眼
一抹黑，很糟糕。
更重要的是
光电子技术，是电子技术的继续发展，是未来的发展方向。是五年十年后人类迫切
需要的技术发展。所以，SP光刻机，是通用芯片光刻机的继续发展。
也所以，对西方来说，五年十年后的光刻机，中国先人一步造出来了。也就是说，
中国的光刻机技术，实现了弯道超车，超到前面去了。
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