1.原文连结：
http://ppt.cc/d1km
2.内容：
微影设备大厂艾司摩尔（ASML）着眼于10奈米以下制程挑战，宣布推出全方位微影解决方
案，整合曝光机、量测系统、电脑软件等，降低客户整体持有成本。ASML已规画将量测系
统Yield Star设备全数移到台湾生产，而ASML零组件代工合作伙伴帆宣（6196）、家登（
3680）成为最大受惠者。
随着半导体制程开始进入16/14奈米鳍式场效电晶体（FinFET）世代后，制程设备投资成
本愈来愈高，而3年后市场进入10奈米世代，半导体厂如何有效降低生产成本就成为竞争
关键。ASML表示，特别在10奈米以下制程，半导体影像叠对（overlay）只能容许三分之
一的误差，除了曝光机的生产效能外，也需要更精准的量测和校正，来加强成像和影像叠
对的效能。
有鉴于此，ASML推出全方位的微影解决方案，进一步强化浸润式（immersion）微影曝光
的效能，协助客户更快且用更低的整体成本来达到量产。
ASML全方位解决方案最大特色，就是把Yield Star量测系统与曝光机整合。Yield Star量
测系统已对应于28奈及20奈米世代，也可满足14/16奈米以下逻辑IC、20奈米世代内存
制程的量测需求。过去几年Yield Star系统虽然在台湾完成模组化，但仍需送回荷兰总部
进行组装，不过，ASML已决定未来全部系统都会在台湾组装制造，并出货给全球主要客户
，由台湾团队支援全球装机。
为了有效达到Yield Star的全机组装生产，ASML表示，将会利用水平整合的概念，将关键
零组件及模组委外代工。而据了解，国内设备厂积极争取ASML代工订单，而与ASML合作多
年的帆宣及家登，已经成功挤身Yield Star量测系统供应链，可望成为主要受惠者。
此外，ASML也积极推动极紫外光（EUV）微影技术开发，随着机台开始陆续交机，极紫外
光光罩盒（EUV POD）需求愈大，家登是全球唯二通过大厂认证的供应商，仱年EUV光罩传
送盒的接单有机会较去年出现倍数成长。
3.心得/评论(必需填写)：
家登光罩盒有这么好用? 实际使用状况只能说点点点....

帆宣的设备呢？实际的妥善率如何？