Intel 早前曾提出过经典的 Tick-Tock 规则，架构和制程每隔两年交替升级一次，但是实
际上制程的升级到了14nm就卡住了，而到了10nm更是栽了个大跟斗，导致台积电直接追了
上来，但从最近曝光的 Roadmap 上可以看到他们仍尝试恢复两年升级一次制程的节奏，预
计2021年会推出7nm，而之后则是5nm、3nm、2nm和1.4nm
来自wikichip的消息，在 IEEE 国际电子设备会议上，ASML首席执行官Martin van den
Brink的演讲中有一页 Intel 未来制程线路图，它显示了 Intel 今年有10nm，2021年的
7nm和2023年5nm的发展和定义，到了2025年还有3nm，2027年会进化到2nm，而2029年，则
会有1.4nm。
而每个节点之间，将会有制程的改良版本+和++，这样可以更好的发掘之前制程节点的潜力
，唯一例外的是现在的10nm，因为现在的10nm制程准确来说应该是10nm+ ，最初期的10nm
是那个只有少量出货的 Cannon Lake，明年会有10nm++，而2021年则是10nm+++，同年
Intel 也会推出7nm EUV 制程。
而且这张幻灯片上也有提到反向移植，他们设计芯片时会同时兼容新和旧两种制程，如果
新制程进展顺利的话就直接使用新制程生产，如果进展不顺利的话只需要较少的时间使用
交旧制程的++版本生产新架构的处理器，这应该是 Intel 这几年的惨痛经历得出的教训，
Intel 允许任何第一代7nm设计都可以反向移植到10nm+++，5nm的设计可以反向移植到7nm+
+，3nm可移植到5nm++等等。
目前已经确定 Intel 的下一个制程节点7nm会使用 EUV 制程，而去年的架构日上，Raja
Koduri 也透露过未来的5nm可能会从现有的 FinFET 技术转移到全能门 GAA 技术，而且可
能使用高 NA EUV 制程，2023年也和 ASML 销售高 NA EUV 光刻机的时间重叠，至于更先
进的3nm、2nm和1.4nm制程，Intel 目前还处于寻路模式，和以往一样 Intel 在寻找新材
料、新晶体管设计等，现在谈论还太早。
https://www.coolaler.com/threads/intel-2029-1-4nm.357873/