[讨论] 关于ALD原子层堆积法的问题 hatsu5400 PTT批踢踢实业坊

[讨论] 关于ALD原子层堆积法的问题

楼主: hatsu5400 (莫球) 2019-11-13 16:59:33

不知道在这边的各位大大有没有人使用过原子层堆积的装置
我用ALD堆积hfo2 150cy在硅片上方
出来的结果如下图
https://i.imgur.com/B9dxAiW.jpg
感觉堆积厚度很不平均
（应该说整个就是怪怪的
不知道奇怪的颜色分布那边是什么...）
有人遇过一样的问题或知道什么改善方法吗？
考虑到的可能性是温度没设定好（试料台设定275度
但是用红外线摄影机看的时候加热后温差分布状况虽然有一点不一样但是整体还算温度差
不多）

作者: bigbill (A_A) 2019-11-13 17:58:00

正常不都是2%以内的均匀性吗...

作者: yfchen1976 2019-11-13 18:05:00

要先看温度分布是否正常

楼主: hatsu5400 (莫球) 2019-11-13 18:18:00

一开始也觉得是温度的分布不正常所以有用红外线摄影机和热电偶测温度，边缘的地方是由产生一些温差没错但大致上温度是一致的还有想请问有温差的时候知道要怎么解决吗？

作者: shiow1026 (CannonDick) 2019-11-15 09:51:00

热应力问题吧你退火时间多久？堆积厚度你要用拉曼去看才知道

作者: m9903249 (doggy) 2019-11-18 23:02:00

晶圆的平坦度跟翘曲？

作者: aromaQ626 (抠咪霉庇) 2019-11-21 23:35:00

虽然不是很清楚ALD细节原理不过以镀薄膜的浅薄观点跟物理光学的角度来看那个像彩虹的部分应该是薄膜干涉类似肥皂泡或是马路上水滩上的油应该不是有什么奇奇怪怪的东西

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