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美国砸钱建构 EUV 设备与技术研究，瞄准与 ASML 竞争市场
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科技新报
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美国砸钱建构 EUV 设备与技术研究，瞄准与 ASML 竞争市场
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外媒报导，美国政府投资价值约 10 亿美元研究中心，以开发下一代极紫外光（EUV）制
程技术，挑战荷兰产业领导者艾司摩尔 (ASML)。
美国政府支助价值 8.25 亿美元的 EUV 设备将设于 Albany NanoTech Complex，成为首
个“为美国芯片而生”（CHIPS for America）计画的 R&D 旗舰设施，并将获得额外使用
者资金。半导体设备商应材 (Applied Materials) 预计将成为主要参与者之一，以直接
与 ASML 竞争。面对竞争，ASML 于 2024 年 6 月与比利时 imec 合作，开设类似实验室
。
EUV 设备将专注开发最先进的高数值孔径 EUV 研发。美国表示，EUV 曝光技术已成为达
成 7 奈米以下电晶体大量生产的关键技术，包括台积电等主要芯片制造商都采取相关技
术。因此，美国政府表示，获得 EUV 曝光技术研发的机会，对于延续美国的半导体技术
领先地位、缩短原型开发时间和成本，以及建立和维持半导体人才生态系统非常重要。
美国国家半导体技术中心 (NTSC) 及母组织 Natcast 成员将于 2025 年获得标准 EUV 曝
光设备的使用权，并于 2026 年获得 High-NA EUV 曝光机的使用权。从 2024 年开始，A
SML 已经开始向英特尔和其他芯片制造商提供 High-NA EUV 曝光机。美国商务部长 Gina
Raimondo 表示，透过这个旗舰设施，CHIPS for America 计画为 NSTC 提供了先进研究
和工具的机会，并启动代表着确保美国在创新和半导体研发方面保持全球领导地位的重要
里程碑。
Albany NanoTech Complex 现已成为由 IBM 转型而出的非营利组织 NY Creates 一部分
，将于 2025 年开始初期营运，并允许 Natcast、NY Creates 和 NSTC 成员合作，开展
研发活动。对此，美国商务部标准与技术副部长兼国家标准与技术研究所所长 Laurie Lo
cascio 表示，凭借 20 年培育有效公私合作伙伴关系的经验，以及自成立以来在半导体
研发、制造和人才发展方面投资超过 250 亿美元，NY Creates 处于独特地位，可以支持
NSTC 的使命，提供开放环境以加速研究、缩短商业化时间，并在美国培育可持续的半导
体生态系统。
Synopsys 前高层、也是当前 Natcast 执行长的 Deirdre Hanford 指出，CHIPS for Ame
rica 的 EUV 设备强调致力美国开发和推进下一代半导体技术的承诺。与 NY Creates 合
作，使 Natcast 和 NSTC 成员获必要 EUV 曝光机和流程，以促进更广泛的研究，并加速
未来技术的商业化。
5.附注、心得、想法︰
※ 40字心得、备注 ※
有一句中国话叫什么来着
尿尿擤鼻子
两头都拿啊！
前不久才逼迫荷兰禁止卖出光刻机给中国
再来就是自己做光刻机
美国好棒棒！
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