我觉得中芯国际用duv 曝光机的极限就是7奈米了。

大概就是台积电第一代7奈米的水准吧！

这种水准现在还要卖30000元台币，这不合理。

只是让华为续命而已，海思设计能力也没增加，还是只停留在5奈米。

我猜也不是用中国的EDA ，只是之前买的EDA 继续用而已。本来就可以设计到5奈米。

只要中国拿不到euv 曝光机，我感觉差距还是会被越拉越远。

重点还是中国什么时候做出euv 曝光机和高阶duv 曝光机。

中芯国际这次用的duv 曝光机还是用荷兰asml 的啊！