1.媒体来源:
中时新闻网
2.记者署名:
郭宜欣
3.完整新闻标题:
大陆技术落后至少20年！高盛爆“震撼真相”只能生产65奈米
4.完整新闻内文:
大陆无法取得生产先进半导体的极紫外光EUV曝光机，使得大陆只能使用次级的深紫外光
DUV曝光机，自主生产芯片的能力停留在7奈米。高盛认为，大陆本土研发曝光机的技术落
后西方至少20年，本土曝光机目前仅能生产65奈米的半导体。
外媒wccftech报导，高盛最新报告指出，全球最大半导体设备商艾司摩尔ASML花了20年，
投入超过400亿美元研发与资本支出，才将曝光机技术从65奈米推进至3奈米以下，目前大
陆本土曝光机技术仍停留在65奈米阶段，短期内不太可能追上西方世界的水准。
艾斯摩尔拥有全世界最先进的曝光机技术，唯一能够生产EUV机台的厂商，大陆虽然能不
断改良DUV机台推进生产半导体的实力，但存在成本过高、效率过低且良率不佳的问题。
华为旗下产品使用中芯的7奈米技术，但更先进的5奈米技术尚未商用，且市场流言众说纷
纭，wccftech曾引用韩国金融服务商Kiwoom Securities的报告指出，中芯虽然在5奈米发
展上取得进展，但成本比台积电高出50%，且良率仅台积电的三分之一。
大陆工信部去年曾公告，大陆已经成功自主研发DUV机台，可生产8奈米及以下芯片，虽然
与艾司摩尔存在差距，但至少能够填补空白。大陆工信部也期待未来能够国产EUV机台，
摆脱西方国家的牵制。
目前台积电、英特尔与三星都是利用艾司摩尔的EUV机台推进技术，台积电最先进的2奈米
技术预计在第四季量产，已经获得苹果、超微及辉达等大客户的订单。
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6.备注:
可是 小粉红都说他们中国 今年能量产3nm芯片了耶!!! 真的吗???