辉达执行长黄仁勋最近在年度GPU技术大会
宣布推出“cuLitho”软件库
能改善运算式微影技术
提升蚀刻至硅晶圆的电晶体分辨率
并表示台积电、新思、ASML都会使用
优点：
晶圆厂还可将每日光罩产量提升3~5倍，用电量却比当前组态少9倍（从35 MW减至5 MW）。也就是说，之前得花两周才能完成的光罩，现在只消一晚即可制出。
黄仁勋声明稿:
“芯片产业是世界上几乎所有产业的基石。有鉴于微影技术已达物理极限，辉达决定推出cuLitho软件库并跟伙伴台积电、ASML、Synopsys合作，让晶圆厂增加产出效率（ throughput）、减少碳足迹，也替2奈米及更微小的制程打下基础。”
台积电总裁魏哲家声明稿：
cuLitho团队在加快运算式微影技术方面有了令人钦佩的进展，方式是将昂贵的运作转移至GPU。最新发展为台积电开启新的可能性，能更加广泛地部署反向微影技术（inverse lithography technology）和深度学习（deep learning）等微影解决方案，进而对半导体缩放的延续性做出重要贡献。
芯片产出稳定又快又节能
那未来2奈米是不是能便宜卖了？
有没有八卦？