中国想自力打造EUV ASML工程师：天方夜谭
〔编译卢永山／综合报导〕美国对华为实施出口管制，凸显中国半导体产业缺乏技术和制
造设备的窘境。华为创办人任正非日前造访中国科学院，传出华为将与中国科学院合作，
并能在先进的极紫外光刻（EUV）技术上有所突破，甚至超越台积电。但1名任职荷兰艾斯
摩尔（ASML）、且投入EUV开发的华裔工程师近日发文表示，这是“天方夜谭”！
这名工程师在网络发文指出：“先别提把EUV给造出来，就是把EUV给用好都是一件无比复
杂的事情，台积电算是我们的客户，我很佩服台积电的工程师或者说他们整个的体系。他
们对光刻机的使用达到了某种让人钦佩的高度。”
该工程师说，打个比方，如果台积电是美国海军拥有10艘10万吨级核动力航母，中国芯片
制造商大概就是中国海军，而且是在辽宁舰未拖进港时期的中国海军；中国会不会有朝一
日造出10万吨级别的核动力航母？这个当然有可能，但什么时候能造出来，真的不好说，
需要天时地利人和都具备了才行。
他说，这些条件包括或可能包括：国家要下大决心，要做好十几年甚至20年一直亏钱的准
备；外部技术封锁要有些松动；要有一流人才愿意给中国效力；需要大量从业的工程师来
进行过渡；三星电子、英特尔，台积电的某一家要出1个大问题，倒闭或破产，这样能让
出市占率，给予中国公司发展机会；新技术恰好在国家大力投入的时候兴起，让中国能实
现弯道超车。
该工程师坦言，中国若有这个钱重新在国内建立起1家像台积电一样的公司，还不如用这
个钱直接收编台积电；从成本上来看，后者很可能更加便宜。台积电这种巨无霸如果不是
遇到芯片制造的重大革命，或者其他危机，中国企业很难超越！
该工程师说，所以中国要造新型EUV光刻机并不是中国单挑美国，而是中国要单挑外国，
因高性能的滤光片，对极端紫外线高反射率的镀膜，耐用的商业雷射机……没有一个是中
国自己能够造出来的，没有这些基础器件，谈造EUV就是天方夜谭！
他表示，造光刻机跟造航母不一样，航母并没有在全球的产业链里面，而光刻机是全球产
业链整合出来的产品，针对中国的技术封锁如果没有松动，需要重复做的事情太多，绝非
十年二十年，靠中国单打独斗能成的；如果有人还觉得市场、钱、政策能够大跃进式地造
出光刻机，那就是绝对错误的认识。
该工程师说，如果技术不革新，中国想在EUV上后来居上几乎做不到。至于台积电，它是
使用EUV的厂商，如果中国半导体代工企业都没有EUV可用，在10年内、20年内、甚至100
年内都很难超越台积电。
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