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tech_job
[请益] 请问关于plasama etch system的问题
楼主:
ability0207
(豪)
2016-03-24 22:27:23
1.同体积的He跟同体积的N2 价格差几倍
2.plasama etch system中常使用的
backside He system中的He可否用N2取代
是因为N2会跟Si反应吗
还有其他比较便宜的gas可以取代吗
有没有经济效益 cost down有没有搞头呀
小弟无知 异想天开 请各位先进指教
谢谢
作者:
melzard
(如理实见)
2016-03-24 22:29:00
He是惰性气体 N2在某些制程中可是会用作蚀刻气体的要是发生leak现象对wafer有什么副作用你无法预测监控
作者:
santorini
(圣托里尼)
2016-03-24 23:21:00
先搞清楚etching的原理 你就知道气体不是可以随便换
作者: Forehand (正手)
2016-03-24 23:47:00
He冷却效率比较好,不能换N2
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