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2大原因 台积电美国厂制程恐永难追上台湾
2025/01/19 07:32
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基于亚利桑那州的工厂距离台湾的研发中心很远，且因为美国的官僚主义影响，美国厂可
能永远落后于台湾。（取自网络）
吴孟峰／核稿编辑
〔财经频道／综合报导〕即使台湾法规允许台积电将最新制程技术出口到海外晶圆厂，未
来台积电在美国的工厂是否会超过台湾，仍有很大挑战。路透和Tomshardware报导指出，
基于亚利桑那州的工厂距离台湾的研发中心很远，且因为美国的官僚主义影响，美国厂可
能永远落后于台湾。
台积电执行长兼董事长魏哲家表示，台积电先进制造在美国提高产量不仅会变得复杂，因
为亚利桑那州的工厂距离台湾的研发中心很远。
魏哲家解释，新技术节点最初在台湾加速，因为领先的制造流程非常复杂，需要与研发团
队密切合作，以便能够做出某些调整来实现某些目标。虽然台积电很乐意在台湾和美国实
施相同的技术，但后勤方面的挑战使得美国工厂领导这一过程变得不切实际。因此，台湾
在新科技引进方面永远走在前面。
台积电在美国最新制程技术上难以前进还有一个原因：官僚主义。魏哲家表示，由于需要
大量许可证、当地施工法规以及缺乏简化的流程，亚利桑那州的设施的建设时间至少是台
湾的两倍。仅解决监管复杂性就花费公司3500万美元，因为台积电制定18000条规则来满
足合规性要求。
此外，化学品供应成本高出五倍，促使台积电将硫酸从台湾运到洛杉矶，然后运到亚利桑
那州。法规、广泛的许可和灵活的供应链不仅对晶圆厂的建造或运作方式产生影响，而且
对下一代制造流程的开发产生影响。
Tomshardware报导，一些新的制程技术需要全新的工具和时间，让台积电重新思考其晶圆
厂的建造方式。例如，与DUV曝光机不同，EUV微影曝光机将其CO2雷射产生器系统放置在
EUV光发生器和晶圆厂底层的下方。因此，台积电等公司不得不改变其晶圆厂的设计。高
数值孔径EUV工具比当前一代低数值孔径EUV工具大得多，因此台积电将不得不再次改变其
晶圆厂的设计。