避免美日材料大厂卡脖子，中国推动国产光阻供应链
https://technews.tw/2024/12/18/china-photoresist/
随着中国半导体产业迈向自给自足，不仅要开发精密的芯片制造工具，还要开发高纯度光
阻剂，这对制造先进芯片相当重要。根据研调机构 TrendForce 报告，中国今年在光阻发
展有显著进步，主要受政府支持，以及当地芯片制造商需求增加。
半导体光阻剂主要用于生产离散元件、LED 和积体电路。透过缩短曝光波长来提高分辨率
，实现更高密度的IC。根据曝光波长分类，包括宽带 UV（300-450nm）、g 线（g-line，
436nm）、i 线（i-line，365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、EUV（13.5nm）和电
子束类型。
其中，KrF、ArF 和 EUV 光阻剂纯度最高、拥有最先进技术，核心技术主要由来自日本及
美国的大厂主导，如 JSR、日本东京应化工业（Tokyo Ohka Kogyo）、信越化学、住友化
学、富士软片（Fujifilm）及杜邦（DuPont）等龙头企业掌控。
中国公司如上海新阳、彤程（Rachem）和徐州博康（Bcpharma）在入门级光阻剂取得进展
，但由于技术挑战和起步较晚，高阶市场竞争力有限。目前中国国内光阻剂渗透率仍低，
g-line 和 i-line 光阻剂渗透率约 20%，KrF 低于 5%、ArF 更是低于 1%。
不过，也有中国企业在高阶光阻剂上大步前进。 湖北鼎龙最近宣布其浸没式 ArF 及
KrF 晶圆光阻剂产品顺利通过客户验证，成功获得两间中国晶圆厂订单，总金额超过百
万人民币（约 13.7 万美元）。
根据湖北鼎龙公告，公司针对 KrF、 ArF 光阻剂的技术要求设计单体结构、树脂结构、
配方等，提高纯化、过滤、混配等工艺等级，开发出 KrF、ArF 光阻剂专用树脂及其高纯
度单体、光致产酸剂等关键材料以及光阻剂产品，实现从关键材料到光阻剂产品自主可控
的全流程国产化，符合下游客户产业链供应链安全自主可控的需求。
另一间深圳容达收到中国深交所审核通过，获得 2.44 亿人民币（约 3,350 万美元）私
募配售的批准，可以简易形式向特定对象发行 904.71 万股，发行价格为每股 26.97 人
民币，募集资金 2.44 亿人民币。扣除相关发行费用后，将全部用于高阶感光线路干膜光
阻剂建设专案、IC 载板阻焊干膜光阻剂，及支援研发成本和营运需求。
TrendForce 认为，中国政府大力支持半导体及原物料产业发展，推出扶持光阻产业的政
策，都不断加速该领域研发和生产，实现核心技术的中国国产替代品。