就近服务台积电 艾司摩尔南科设EUV培训中心
自由时报
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〔记者洪友芳／新竹报导〕晶圆代工龙头台积电位于南科的五奈米制程晶圆十八厂，是导
入极紫外光（EUV）微影设备的全制程厂区，将是全球拥有EUV最大产能的半导体厂；荷商
艾司摩尔（ASML）看好台湾半导体业，并服务大客户台积电，正式在南科设立荷兰以外的
首座EUV全球技术培训中心，今正式开幕，以训练EUV设备人才。
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台积电近五年资本支出（制表：记者洪友芳）
海外首座EUV培训中心
台积电的七奈米制程主要在中科十五厂量产，去年量产第二年，七奈米加强版才开始导入
EUV设备的技术。位于南科的晶圆十八厂刚量产五奈米制程，为台积电第一个采EUV微影设
备的全制程技术超大型晶圆厂（GigaFab），接续还将建置三奈米产能，将是全球拥有EUV
最大产能的半导体厂。
台积电是全球晶圆代工霸主，技术领先英特尔、三星等，英特尔在七奈米制程技术卡关，
日前已宣布将委外代工生产，三星则宣示下半年量产五奈米；台积电目前是全球最有能力
投资EUV微影设备的半导体厂，可说是ASML的大客户，因此吸引ASML在南科设立荷兰以外
的首座EUV全球技术培训中心，以培训EUV设备工程人才，就近服务客户装机与售后维修。
EUV微影设备 单价35亿
EUV微影设备售价昂贵，全球仅ASML生产制造，业界预估一台售价超过一亿欧元（约三十
五亿台币），…EUV技术门槛高，目前全球仅台积电、英特尔、三星采购居多；ASML在南
科厂区规划约五百坪空间，配置EUV模组、训练教室等，提供对内对外教育训练，代表看
重台湾半导体市场。
台积3奈米 明年试产
因应五奈米、三奈米制程的投资庞大，即使面对疫情，台积电反而逆势上修今年资本支出
达一六○至一七○亿美元，带动半导体供应链也旺。台积电估五奈米贡献今年营收约八％
，与五奈米共用设备的四奈米制程预计二○二二年量产，三奈米制程目前进展顺利，计画
明年进入风险性试产、二○二二年下半年量产，届时仍将是领先全球的技术。
◎小档案：EUV 极紫外光微影技术
极紫外光微影（Extreme ultraviolet lithography，简称EUV），是一种使用极紫外波长
的下一代微影技术，透过高能量、波长短的光源，将电路图案转印到晶圆。EUV光源波长
比目前深紫外线微影的光源波长短少约15倍，因此能达到持续将线宽尺寸缩小的目的，透
过EUV微影设备，驱动芯片效能更高。台积电估算，采EUV与5奈米制程，相较7奈米，电晶
体密度多1.8倍，速度增快15％，功耗省30％（记者洪友芳）