事情是这样的 小弟顾的机台 有几台是TEL的光阻涂布机
就我所知就是涂光阻用的
最近发现 黄光区那些ASML或Cannon的曝光机前面都有一台TEL的机台不知道是不是也是光阻涂布?
我有看到其中一台上面写着immersion 第一个想到的就是浸润式微影
所以说曝光机前面那台 到底是干嘛用的阿阿阿?
如果也是光阻涂布机 那为何小弟的单位也有一群一样的机台 不过却不是直接和曝光机接在一起?
如果曝光机前面那台跟浸润式微影没关的话 那净润式微影是怎么实现的呢~~?
(小弟有上网查过惹 不过查不到什么资料 只好向各位大学长请教!!
其实问这些跟工作无关 只是很好奇> <

那个叫track

黄光分track跟scanner，到EUV话再分个source(不过本来就有source，只是重要度大增)

offline coater

track>>develop

都是涂布机...曝光前也是要coating啊～有些只是上barc之类的～就不用接曝光机～

immersion基本上是scanner的事 不过track也有些差异

所以说前面那台track也是涂布机 只是涂不同溶液?

十

Routing都是扣曝显，就只是机台分in-line跟off-line吧（有没有串起来这样？）

你不是薄膜的吗?

mark 8吗~哈

所以你顾的几台都是offline coater

scanner track Yieldstar

可以上网查查EUV..就知道为什么没有

您可以观察曝光机前的track是不是只有显影功能

你们公司有EUV那真的猛

scanner本来就要有光源source，但附属设备稳定问题不大但到EUV机台问题大量在source端，才把他拉出来一组team

你问的问题答案是in-line跟off-line的差异这些问题抓一个附近的黄光制程问一下就知道了

请教tweens大 那inline 跟 offline coater 的差异是?

前面那台是自动贩卖机啦，你按红色那颗，会有惊喜

你顾的是offline coater 只做光阻涂布这块 有接scanner的是inline 曝光后 track再做显影 这样throughput比较好不会因为coater module挂掉而整个被拖累 scanner成本很高的

我也是黄光的我学长教我 前面那台的功能，就是想休息的时候按下红色按钮，就可以准备休息了

可以休蛮久的 不错

PM schedule原则上都以scanner为主即可知 红色最好按一整排泡水机der

就是in line与 off line的差异

产能的角度bottleneck 会是曝光机

如果是EUV楼上的答案是对的。如果是immersion答是错的。

inline和offline的差异，这个是基本要知道的部分，至于涂的是PR还是Barc或其他的，以及曝光的光源与机台形式，改快好好的去询问部门学长学习，至于涂布方式与参数，那就要看制程设计初期在pilot run检视状况决定。

Nikon表示存在感低

Nikon 基本上已经死光了

产能瓶颈通常是显影才对喔，所以才配到3D or 4D另，Nikon 8吋机在二手市场近期很抢手喔，III-V 的应用。如果还想知道什么，可以来信；但是问学长是最快的方式无误

依效益的角度来说，曝光机要是瓶颈没错吧，曝光机卡贵，所以要把他塞好塞满@@''

Scanner塞好塞满track delay 也没用啊

拖到scanner的时间会被干比较凶XD

概念跟机台折旧有关吧，不管如何都会有瓶颈（消除瓶颈产能提升这我知道）。scanner 折旧成本假如一小时10块，track 3块，那你让scanner idel 1小时就是浪费10块，所以让scanner idel，会被干爆正常，我是这样想啦[email protected]@反正就是不管怎样都有瓶颈，那选谁当瓶颈卡好的概念

你的问题是最基本的问题 加油吧！

你菜爆了...想知道就问学长吧

基本上有接immersion的都是显影机，没接的都是涂布机，但这只是我自己看到的，有没有例外我不知道

大哥 黄光的制程稍微了解一下，对顾机台也是有好处的如果是proZ的后面还会接wisd, ACT的大概就不会接

光源有Dry and immersion差别在于光源波长的不同 但使用的气体相同 EUV的波长更短 能量更强 耗能是前两个的好几倍机台体积也是好几倍