大摩报告：想追上 Intel，台积电 10 奈米需仰赖 EUV 技术
作者 吕 绍玉 | 发布日期 2015 年 03 月 24 日 | 分类 芯片 , 零组件
(图：张董)
半导体产业近 50 年来一直在摩尔定律上发展，但自 28 奈米制程以来，却因技术限制
而渐渐背离，然而 Morgan Stanley 研究报告认为，若晶圆厂采用极紫外光（Extreme
Ultraviolet，EUV ）微影技术于 10 奈米制程，将有助于半导体产业回归到摩尔定律上
发展；Morgan Stanley 也认为，在 10 奈米制程大幅落后 Intel 的台积电，也有望靠着
EUV 迎头赶上，消息一出，17 日台积电股价创下半个多月来最高涨幅。
Intel 在制程上领先竞争对手 2 年，预计在 2016 下半年或是 2017 上半年开始以自家
研发的 10 奈米制程技术生产芯片。台积电则是在后头苦苦追赶，2014 年 6 月启动的夜
鹰计画即为了应战 10 奈米，目前可能采用的制程技术像是多重曝光（multiple
patterning），又或著是由艾司摩尔（ASML）研发的 EUV 机台。
EUV 符合效益并能直上 7 奈米
Morgan Stanley 相当看好 EUV 在 10 奈米的应用，他们预估在 2018 年时，EUV 就能
在大规模应用在 10 奈米制程上，甚至可望在 2019 下半年直接推进到下一代 7 奈米制程
。
目前 EUV 的难处就在于生产量，根据估算它要达到浸润式微影机台（immersion tool）
的 1/6 产量，对晶圆制造业来说转换到 EUV 才具有经济效益。浸润式微影机台产量为每
小时 250 片晶圆，也就是说 EUV 机台的产量要达到每小时 42 片晶圆，或是每天
1,000 片，Morgan Stanley 的报告中指出，艾司摩尔已经非常接进这个数字，他们甚至
相信在 2015 年就能达成此一目标。
晶圆制造 Intel 相比代工厂没有多少优势
而 Intel 虽然在制程技术上领先，但 Morgan Stanley 对于该公司是否能因此获利，以
及是否能在晶圆制造上保有长久领先地位是较不乐观的，其原因有三：第一，Intel 晶圆
价格远高于台积电等晶圆代工厂，抵消其技术上的领先；再者，与台积电等晶圆代工厂相
比，同时为芯片设计公司的 Intel 跟其客户之间存在竞争关系，因此接单较为不易；最
后，Intel 先进制程是为高效能的微处理器而设计的，其他半导体产品不见得需要这么精
细的制程。
Morgan Stanley：追赶 Intel，台积电须仰赖 EUV
Morgan Stanley 大力看好 EUV，同时分析台积电较须仰赖 EUV，因为能借此在 10 奈米
制程赶上 Intel，还能在 7 奈米制程中拔得头筹。消息一出，17 日台积电股价上涨，涨
幅达 2.05%，为近半个月来最高，可见外界对于台积电 10 奈米制程的进度相当关注。
外资圈也有消息传出，因为台积电 10 奈米制程技术大幅提升，先前将 14 奈米交由
Intel 代工的阿尔特拉（Altera）拟将 10 奈米转交由台积电代工，预计本季可拍板定
案。若订单重回台积电手中，是台积电继苹果 A8 订单后的另一大利多。
18 日台积电共同执行长刘德音在美林论坛中指出，10 奈米制程将于 2017 年将开始量
产，2020 年将成为公司主力、带来 55% 营收；不过他同时指出，EUV 技术将在 10 奈米
制程后才开始采用。
http://technews.tw/2015/03/24/morgan-stanley-tsmc-depands-more-on-euv/