统懋半导体新市厂污染土壤地下水 环境部公告解除列管
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2024-01-15 18:13 联合报／ 记者 郑惠仁 ／台南即时报导
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统懋半导体新市厂土壤及地下水受有机溶剂污染，5年前被公告为污染整治场址，经完成
污染改善且验证合格，环境部今天公告解除列管。图／南市环保局提供
统懋半导体新市厂土壤及地下水含氯有机污染物、氟盐超过管制标准，2018年被公告为污
染整治场址，台南市环保局今宣布，新市厂已在去年6月完成污染改善且经验证合格，环
境部今天公告解除列管。
台南市环保局表示，为厘清工业区地下水污染整治责任，2016年办理新市工业区土壤及地
下水污染调查，发现土壤及地下水受有机溶剂污染，依规定于2018年3月28日公告为土壤
及地下水污染控制场址。历经相关调查及应变必要措施，环境部环管署同年8月15日公告
为土壤及地下水污染整治场址，并处污染行为人统懋半导体股份有限公司15万元罚锾。
环保局长许仁泽表示，除要求该公司提出整治计画进行改善，整治期间定期邀集专家学者
召开会议，督促行为人改善及预防2次污染。该公司为显企业责任，原核定5年改善期程，
在环保局严格监督下，提早2年完成污染改善工作，花费整治费用2千6百万元，
环保局去年10月进场验证，土壤及地下水污染物浓度已低于管制标准，且经环保署同意解
除土壤及地下水污染整治场址列管，完成土地活化面积约2万平方公尺。
市长黄伟哲表示，工业区的存在可带动区域经济的发展、增加就业机会，但密集的产业聚
落使得污染潜势增加；除政府机关主动调查与积极监督外，工业区也应办理土壤及地下水
品质监测，建立预警机制，确保工业土地永续利用，共同维护环境品质与民众健康。