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台积电 2 奈米制程进展顺利，宝山 P1 厂最快第二季初设备安装
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发布时间：2024 年 01 月 16 日 7:00
记者署名：Atkinson
原文内容：
根据市场消息指出，晶圆代工龙头台积电预计自 2 奈米制程开始采用 GAA（全栅极环绕
）架构的计画将如期执行。现阶段位于新竹科学园区的宝山 P1 晶圆厂，预计最快将在
2024 年的 4 月份开始进行设备安装的工程，这也将使得 P2 工厂和高雄工厂都将于
2025 年开始生产 GAA 架构的 2 奈米制程技术。
而因为 P2 工厂和高雄工厂都将于 2025 年开始生产 GAA 架构的 2 奈米制程技术，加上
中科部分初步规划的 A14 和 A10 生产线，未来也将因应市场的需求状况，进一步规划
2 奈米制程技术的情况下，未来 2 奈米制程技术将会成为台积电接下来一个重要的制程
节点。在此情况下，半导体设备厂商包括国际大厂 ASML、应用材料，还有多家台湾供应
商都将预计将能迎接新一阶段的商机。
根据台积电的财报显示，2023 年第三季在 3 奈米制程技术的营收占比约为 6% 左右，现
阶段 3 奈米制程的月产能也已经逐步增加到 10 万片的规模，这将对于台积电对于
2024 年对营收的贡献更大。其中，继 N3B 制程之后，性能更好的 N3E 也已经在 2023
年第四季开始量产，接下来还有 N3P、N3X 制程技术，也将满足各类客户的需求。
接下来，对于台积电即将在 2025 年量产的 2 奈米制程技术，当前的客户都兴趣浓厚。
其中，又以 HPC 高效能运算、智慧型手机两大应用领域最为积极。而由于英特尔在日前
宣布，已经取得 ASML 旗下首套 High-NA EUV 曝光设备的情况下，尽管台积电尚未公布
这类设备的采购计画，但因为曝光设备是先进制程所不能或缺的，相信台积电也已经有所
规划。只是，要将 High-NA EUV 曝光设备自哪一个制程开始使用，则还有待后续观察。
心得/评论：
三星3nm GAA做得跟__一样，我一直都不信2nm可以弯道超车这种话
连3nm都做不好，怎么可能做好2nm
虽然台积是第一次使用GAA技术，但相信足够的技术积累可以克服新技术的瓶颈
2024买GG !