原文标题：
台积电加码赴美设3奈米 陆行之：外资也写不出利多报告 提四疑问盼公司说明
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发布时间：
2022/12/07 10:14:32
※请以原文网页/报纸之发布时间为准
记者署名：
经济日报 记者杨伶雯／台北即时报导
※原文无记载者得留空
原文内容：
台积电（2330）宣布计划加码美国新厂投资至400亿美元（逾新台币1.2兆元），
是美国史上规模最大的外国直接投资案之一，
资深半导体产业评论家陆行之今（7）日最新脸书发文提出四大疑问，
希望台积电能在1月法说或历史首次12/10海外分析师会议找机会解答。
陆行之针对台积电加码投资美国厂一事在脸书发文表示，
虽然T公司（指台积电）赴美投资成本高昂，
但谁都知道地缘政治考量（美国政府压力及分散核心制程技术风险集中在台湾）
扮演一个绝对的角色。
陆行之说，台积电宣布从120亿美元投资，加码到400亿美元，
且预计导入5、4、3奈米制程，
对于成本高昂，毛利率明显低于台湾任一厂及平均的美国厂来说，
在其他假设基础不变之下（营收增长展望CAGR不变），
拉高美国厂资本开支等于拉高低毛利美国厂营收比重、折旧费用，
陆行之认为，
这对于一直在精算台积电获利前景的外资分析师不算好消息，也应该写不出什么利多报告。
陆行之也提出四个疑问，希望台积电能在1月法说或历史首次12/10海外分析师会议找机会解答。
陆行之提出的第一个疑问是，据他了解，美国一厂大部分用了很多台湾调教过，
然后运过去且折旧3～4年的5nm 旧设备，以后4nm、3nm 应该也是类似，
400亿美元投资5万片5/4/3nm 似乎跟盖新厂没差别，
请问为何会这样，难道建厂成本(无尘室)比重大幅高，还是其他建厂成本拉高？
陆行之的第二个疑问则是，假设T公司未来几年年度资本开支为400亿美元上下，
美国厂未来四年要投资400亿美元，年度资本开支为100亿美元上下，占比25%，
低毛利先进制程业务占比明显高于我的预期，
公司是否会下调之前整体长期毛利率高于53%的展望？
第三点是美国厂计划在2024年会量产5nm，跟台湾厂差距四年两个世代差距N-2；
美国厂计划在2026年会量产3nm，
跟台湾厂差距三年一个世代的差距N-1 (3nm 跟5nm 量产间隔差了近3年)，
陆行之说，公司是否打算在2nm、 1nm 世代拉到同步或持续缩小技术差距？
最后一点疑问，陆行之表示，
台积电美国厂到目前为止都没宣布拿到任何联邦政府的520亿美元Chips Act的补助，
如果拿不到补助，计划会持续进行吗？
陆行之先提出了四个疑问，希望台积电解答，
发文的最后则是，“5. 还在想，会继续加.............”，
代表除了先提出的问题，可能还有更多的问题会再提出。
心得/评论：
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台积黑第一人 是我行之
认为在美国投资是在地缘政治风险下的衡量
但从对公司基本面来说 可能连外资都写不出利多报告
同时提出四大疑问 包括台积电是否会下修毛利率展望
希望台积电能在法说会上回答投资人疑惑