原文标题：
三星SDI开始开发半导体光阻剂
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https://bit.ly/3wb00Au
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发布时间：
2021年7月1日
(请以原文网页/报纸之发布时间为准)
原文内容：
三星 SDI（Samsung SDI）开始开发半导体光阻剂（photoresist）。目标将几乎被日本垄
断的半导体光阻剂的生产内部化，同时将电子材料部门的产品组合多样化。
三星 SDI 的研究中心最近引进了用于开发光阻剂的 8 吋晶圆微影和涂布及显影设备。
由于，日本政府在 2019 年对韩国实行材料出口管制，迫使韩国寻求半导体材料的本地化
布局。三星 SDI 开发半导体光阻剂的决定将对韩国半导体材料的本地化产生重大影响。
日本企业在光阻剂产业有着压倒性的力量，光阻剂是半导体制造的重要材料之一。
日本政府当时决定管制 EUV 光阻剂对韩国的出口。然而，日本公司也垄断了 ArF 和
KrF 光阻剂的制造。像是富士（Fuji）主宰著用于制造 CMOS 影像传感器的 KrF 光阻剂
市场。这些材料比 EUV 光阻剂更常使用。
日本实行出口限制以来，日本的东应化（TOK）和美国的杜邦等公司已经采取行动，在出
口市场生产光阻剂，重组供应链。在韩国，生产光阻剂的公司，包括 Dongjin Semichem
和 SK Materials Performance ，也一直为本地化努力。然而，许多专家指出，韩国需要
投入更多的资金和人力资源，朝成为核心半导体材料的中心努力。
业界分析人士表示，三星 SDI 大规模生产光阻剂的目标，有助于大幅扩展韩国的半导体
材料研究基础设施。
三星 SDI 没有提及光阻剂开发计画的时程。只提到，若能成功大规模生产，会向三星电
子以及其他半导体公司和使用光阻剂的公司供货。
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日韩贸易战，日本对韩国实施出口限制，如今传出三星有意自行研发半导体光阻剂，有助
于韩国供应链自主化。