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日月光携手Deca、西门子 推APDK设计解决方案
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https://udn.com/news/story/7240/5320909
发布时间:
2021-03-16 11:20
原文内容:
封测大厂日月光投控(3711)今(16)日宣布,将联手Deca、西门子数位工业软件公司,
共同推出全新的 APDK(Adaptive Patterning Design Kit,自适应图案设计套件) 解决方
案。日月光指出,透过双方的紧密合作,将使客户全面了解自适应图案的强大功能,在电
性效能突破的同时,确保实现先进异质整合设计的制造能力。
日月光表示,目前已在APDK取得成果,将全套自动化、设计规则、设计规则检查 (DRC)
平台和模板整合在一起,提供一元化设计流程。从模板库开始,设计人员初始的布局到自
适应图案模拟至最后使用西门子Calibre软件通过设计认证,皆可获得广泛的自动化指导
。
日月光市场与技术推广高级副总裁 Rich Rice 表示,日月光通过提供可同时处理单一晶
片及异质整合参数的可靠解决方案协助客户实现自动化设计的愿景。通过量产 M 系列技
术产品,不断提升产品品质,更进一步巩固在扇出型封装技术 (Fan Out) 的领先地位。
西门子数位工业软件公司通过 OSAT 联盟计画加入 Deca 的 AP Live 网络。AP Live 网
络包括电子设计自动化 (EDA) 供应商和原始设备制造商 (OEMs),使供应链生态系统不断
增长。透过 Deca 的 AP Studio 模组将自适应图案设计流程与西门子 EDA 产品整合在一
起,提供具备验证平台的整合设计解决方案。
Deca首席技术官 Craig Bishop 指出,在半导体行业中,如 M 系列先进封装解决方案是
摩尔定律持续发展的关键。通过自适应图案 (Adaptive Patterning),解决了关键的制造
挑战。随着第一个 APDK 的发布,又克服了复杂的设计。相信 APDK 可以帮助设计师利用
完整的解决方案,快速设计新产品并对最终结果充满信心。
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发布这篇新闻之前,最近跌下来的头痛股突然出现大单
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