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三星全力研发EUV技术 少主证实亲赴ASML总部
10/14 17:27
经济日报 编译林奕荣／综合外电
三星电子少主李在镕14日证实，他这几天亲自走访荷兰一趟，拜会荷兰半导体设备大厂艾司摩尔（ASML）的高层，寻求与艾司摩尔进一步加强双方业务关系。
李在镕数月前向韩国总统文在寅表示，三星正致力研发极紫外光（EUV）微影技术；日前他亲赴荷兰，14日返回韩国，李在镕表示：“这趟行程，我一直在寻求建立与EUV相关的关系。”
三星电子声明表示，李在镕此次荷兰之行，曾与ASML执行长韦尼克（Peter Wennink）、技术长范登布林克（Martin van den Brink）等高管在ASML总部会面。
会谈内容涵盖多项攸关双方共同利益的议题，例如ASML销售EUV设备的计画，以及双方合作研发次世代记忆芯片的细节。此外，李在镕也参访ASML的EUV设备生产线。
EUV设备是7奈米制程以下芯片不可或缺的生产设备，相较于较旧的深紫外光（DUV）微影技术，EUV技术拥有良率方面的优势；ASML在EUV技术的智慧财产权和成本上深受信赖。
日本把韩国自信任贸易伙伴名单剔除后，韩国总统文在寅鼓励三星和国内其他主要制造商投资，降低对日本重要工业原料的依赖。
3.心得/评论：
三星少主李在镕亲赴荷兰与ASML洽谈双边合作事宜，增强与ASML双边技术往来，三星将全力投入极紫外光微影技术的开发，以克服7nm以下制程的良率