台积电全球第一以EUV导入N7+、助攻客户产品大量进入市场
1.原文连结：
http://bit.ly/2LXlYD9
2.原文内容：
台积公司今(2019.10.7)日宣布，其领先业界导入极紫外光（EUV）微影技术之7奈米强效
版(N7+)制程已协助客户产品大量进入市场。导入EUV微影技术的N7+奠基于台积公司成功
的7奈米制程之上，为6奈米和更先进制程奠定良好基础。
N7 +的量产速度为史上量产速度最快的制程之一，于2019年第二季开始量产，在7奈米制
程技术（N7）量产超过一年时间的情况下，N7+良率与N7已相当接近。N7 +同时提供了整
体效能的提升，N7 +的逻辑密度比N7提高了15％至20％，并同时降低了功耗，成为业界下
一波产品中更受欢迎的制程选择。
EUV微影技术使台积公司能够持续推动芯片微缩，因EUV的较短波长能够更完美地解析先进
制程的设计。台积公司的EUV设备已达成熟生产的实力，EUV设备机台亦达大量生产的目标
，在日常运作的输出功率都大于250瓦。
N7+的成功经验是未来先进制程技术的基石。台积公司的6奈米制程技术（N6）将于2020年
第一季进入试产，并于2020年底前进入量产。随着EUV微影技术的进一步应用，N6的逻辑
密度将比N7提高18％，而N6凭借著与N7完全相容的设计法则，亦可大幅缩短客户产品上市
的时间。
2019年，台积公司全球总产能超过1,200万片之12吋晶圆约当量，台积公司并提供最广泛
的制程技术，全面涵盖自（大于）0.5微米制程至最先进的制程技术，即现今的7奈米制程
，也是全球第一家提供7奈米制程技术为客户生产芯片的专业积体电路制造服务公司。
3.心得/评论：
台积电原本的7奈米制程好像还是用DUV曝光，但是在7奈米强效版则是改用EUV曝光。照
Technews的整理，N7+可比N7简少10~20%的面积或是降低10%的功耗。