1.原文连结(必须检附)：
https://tw.stock.yahoo.com/news_content/url/d/a/141125/3/4t0gh.html
2.原文内容：
【时报记者沈培华台北报导】全球半导体微影技术领导厂商艾司摩尔(ASML)勾勒2020年成
长愿景，并宣布接获台积电 (2330) EUV量产机台订单，预计于2015年出货。
ASML在台北时间昨天晚间8：00于英国伦敦举行法人说明会，并于会中勾勒公司2020年策略
蓝图—成为营收100亿欧元的公司，并让EPS三倍成长。这是ASML近十年来第一次公开擘划
公司成长策略，并肯定摩尔定律将持续演进。
同时，ASML宣布接获台积电(TSMC)2台NXE：3350B EUV系统订单，预计于2015年出货，用于
量产。ASML也将协助台积电(TSMC)将今年已经出货的2台NXE：3300B EUV系统升级到NXE：
3350B。
ASML指出，为了因应消费市场对于电子产品多功能、小尺寸、低耗电的要求越来越严苛，
半导体产业持续追求电晶体制程微缩，这不仅加速整个半导体产业的成长，也成为让ASML
有信心达到2020年目标的主因。ASML相信在未来10年内，摩尔定律将会持续演进并推动产
业成长，而微影技术(lithography)将是主要的推手。
ASML针对主要产品策略方面；深紫外光(DUV)浸润式系统将持续被用于各种先进制程中的多
层曝光；极紫外光(EUV)系统可让芯片尺寸微缩且制程简化，此将协助客户提高逻辑、
DRAM和NAND芯片的制造成本效益，时程约落在2016年/2017年。全方位微影解决方案
(Holistic Lithography)将提供先进的校正功能，协助客户减少微影制程中的各种误差，
进而提高良率。
上周Moody’s（穆迪）在报告中肯定ASML的财务管理能力，以及EUV产品技术和出货表现，
将ASML的评等从Baa2调高到Baa1，看好ASML的短中期发展。
3.心得/评论(必需填写)：
深紫外光(DUV)和极紫外光(EUV)，哪个波长较短啊？
如果把机台升级到EUV可以简化制程，那是不是就不用泡水、double patterning之类花招
百出了？