ASML 交货英特尔首套 High-NA EUV 曝光机，总价逾 3 亿美元
曝光机大厂 ASML 21 日宣布，已运送业界首套数值孔径为 0.55（High-NA）极紫外线
（EUV）曝光机给英特尔。英特尔之前表示，首套 High-NA EUV 曝光机将用于学习如
何生产 Intel 18A 先进制程，有望使英特尔领先对手台积电和三星。
ASML 发言人表示，已出货第一套 High-NA EUV 曝光机给英特尔。如 9 月宣布，机器
从荷兰 ASML 总部运往英特尔俄勒冈州晶圆厂安装。High-NA EUV 曝光机体积非常大，
需 13 个大货柜才能装完。每套 High-NA EU V 曝光机成本约 3 亿至 4 亿美元。
英特尔表示，会使用最新设备学习生产 Intel 18A 制程，2025 年量产。配备 0.55 NA
透镜的高 High-NA EUV 曝光机达 8 奈米分辨率，比 0.33 NA 透镜、13 奈米分辨率标
准 EUV 曝光机显著提升。High-NA 将在 2 奈米及更先进制程发挥重要作用。
因 High-NA EUV 曝光机与标准 EUV 曝光机差异不小，需大量修正基础设施，故领先对
手几季部署对英特尔是很大优势。英特尔有充足时间调整 Intel18A 制程，一方面调整
High-NA EUV 曝光机基础设施。
来源
https://technews.tw/2023/12/22/asml-delivers-first-set-of-high-na-euv-exposure-machine-to-intel/
https://reurl.cc/XqkXVE
i社表示：机器来了，需要大量新鲜的肝脏