超狂！EUV技术再助攻 台积电2奈米最新进度曝光
00:032020/04/22 中时电子报
吕承哲
全球晶圆代工龙头台积电面对新冠肺炎疫情肆虐，客户出货需求恐怕大减的情况下冲击，
仍缴出历年来第一季最好表现，台积电官网21日上架股东会年报，内容指出台积电去年市
占率达52%，年度总营收创10年来新高纪录，还提到3奈米制程发展情况，2 奈米制程技术
更是首度被提及。
年报内容提到，台积电7奈米制程技术(N7)在去年迈入量产的第2年，在行动装置、高效能
运算（HPC）、物联网（IoT）和车用电子等众多产品中持续被广泛采用。台积电表示，去
年推出的7 奈米强效版（N7+）制程技术亦领先，导入极紫外光（EUV）微影技术进行量产
，整个N7家族营收占全年晶圆销售金额的27%。
至于6 奈米（N6）制程技术刚于今年第一季进入试产阶段，并成功进一步扩展了N7 家族
的未来性。5 奈米（N5）制程技术已广泛采用EUV 技术，将于今年上半年开始量产。作为
业界最先进的解决方案，N5 制程技术已进一步扩大台积电的客户产品组合，同时扩增潜
在市场。
至于为外界所关注的3奈米制程，将是继N5 后另一全节点提升的制程，并将于推出时提供
业界最佳的功耗、效能以及面积（PPA）的制程技术。
此外，台积电也提到，当公司采用三维(3D)芯片堆叠解决方案研发3奈米制程之际，也在
去年就领先半导体业界进行2 奈米制程技术开发，并针对2 奈米以下制程继续探索性研究
。
台积电表示，透过微影技术，去年研发重点在于5 奈米的技术转移、3 奈米技术的开发及
2 奈米以下技术开发的先期准备。5 奈米技术已经顺利地移转，研发单位与晶圆厂合作排
除极紫外光（EUV）微影量产问题。针对3 奈米技术的开发， EUV技术展现优异的光学能
力，与符合预期的芯片良率，研发单位正致力于EUV技术，以减少曝光机光罩缺陷及制程
堆叠误差，并降低整体成本。
台积电表示，今年在2 奈米及更先进制程上将着重于改善极紫外光技术的品质与成本。
https://www.chinatimes.com/realtimenews/20200422000018-260410?chdtv
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