http://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/2584601
2018-10-18 15:04
三星宣布7奈米LPP制程已开发完备并投产，且使用极紫外线微影（EUV）制造。（路透）
https://i.imgur.com/JgNnlOI.jpg
〔编译廖振尧／综合报导〕
晶圆代工龙头台积电7奈米制程领先业界，
订单有苹果（Apple）、超微（AMD）及人工智能（AI）等利多助阵，后续营运看好。
另一巨头三星电子（Samsung Electronics）也积极追赶台积电进度，
今日于官网宣布其7奈米LPP制程已开发完备并投产，
https://news.samsung.com/global/
samsung-electronics-starts-production-of-euv-based-7nm-lpp-process
使用极紫外线微影（EUV）制造，可望减少层数、提高性能、降低功耗。
三星表示，
其“三星先进晶圆代工生态系统”（SAFE）已准备好引入EUV技术、7奈米LPP制程。
与非EUV技术相比，7奈米LPP制程可将光罩数减少约20%，节省生产过程及成本。
相较前身的10奈米FinFET制程，
7奈米LPP制程能减少40%芯片面积、提升20%性能、降低50%功耗。
硅谷媒体CNET周三则访问到三星晶圆代工行销总监史提尔（Bob Stear），他表示，
三星的7奈米制程优于台积电，台积电使用的多重图形曝光需要多达4个光罩，
但三星导入EUV只需1个，总体光罩数减少约20%。
不过他也透露，三星目前仍有光刻机光源和晶圆产量这2个障碍。
目前其EUV光刻机功率已经稳定维持关键功率门槛250W长达6个月，最大功率达280W。
产量方面，史提尔指出损益平衡约是每日1500片晶圆，现在产量则较此数字高。
史提尔称，三星决定10奈米到7奈米制程间不采用多重图形曝光来过渡，
而是投入所有资源开发EUV技术生产。
此外，代工客户数量持续成长，但并未透露细节。
除7奈米LPP制程，三星也发表了新款SmartSSD固态硬盘，
以及基于16GB DRAM芯片的256GB RDIMM。