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[情报] Intel 10nm工艺会引入新材料“钴”,电迁
楼主:
Quentin5566
(困丁轰)
2017-12-12 15:00:35
标题:Intel 10nm工艺会引入新材料“钴”,电迁移性能可提升1000倍
来源:http://www.expreview.com/58161.html
内文:https://i.imgur.com/64PHGwx.jpg
看来这应该是intel真正的大绝招
不过还是希望下一代不要开盖就能稳稳的超
8代的导热问题好像比以前更明显 该是时候换材料了...
作者:
sunandrew321
(sunandrew321)
2017-12-12 17:39:00
简单来说就电跑更快啦
作者:
steven800308
(旅神Traveler)
2017-12-12 18:56:00
普通钴没放射性
作者:
mailforclass
(失意体前屈)
2017-12-12 19:26:00
EM好,可靠度好,细线宽的不容易用久了开路。Mobility好,元件开关速度快,效能变好
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