[情报] Intel 10nm工艺会引入新材料“钴”,电迁

楼主: Quentin5566 (困丁轰)   2017-12-12 15:00:35
标题:Intel 10nm工艺会引入新材料“钴”,电迁移性能可提升1000倍
来源:http://www.expreview.com/58161.html
内文:https://i.imgur.com/64PHGwx.jpg
看来这应该是intel真正的大绝招
不过还是希望下一代不要开盖就能稳稳的超
8代的导热问题好像比以前更明显 该是时候换材料了...
作者: sunandrew321 (sunandrew321)   2017-12-12 17:39:00
简单来说就电跑更快啦
作者: steven800308 (旅神Traveler)   2017-12-12 18:56:00
普通钴没放射性
作者: mailforclass (失意体前屈)   2017-12-12 19:26:00
EM好,可靠度好,细线宽的不容易用久了开路。Mobility好,元件开关速度快,效能变好

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