Intel今年已经开始量产14nm制程，下一代制程将是10nm，Intel原本计划在2015年底开始
投产10nm制程。随着半导体制程进入10nm内，新一代EUV光刻设备也愈加重要，这还要看
荷兰ASML公司的研发进度了。日前该公司公布了Q3财报，其中提到他们将在2016年10nm制
程节点上正式启用EUV光刻制程，首个客户普遍认为是Intel公司。
2016年10nm节点启用EUV制程，Intel抢头香
http://i.imgur.com/LpPRxZp.png
荷兰ASML公司是全球最大的半导体装备制造公司，他们两年前推出了试验型EUV光刻设备
NXE:3100，量产型则是NEX:3300B，该设备每天的晶圆产能已经达到了500片，不过这个产
能跟当初提到的每小时70片晶圆相差还是很多。ASML还提到了他们正在跟一个客户合作，
准备在2016年的10nm中期节点安装EUV光刻设备，这意味着两年后的10nm节点上我们会正
式迎来EUV制程，谈论了多年的技术终于开始量产了。
ASML并没有公布这个客户的名字，不过业界普遍认为这是Intel公司，Intel不仅是ASML公
司的大客户，也是大股东之一，2012年投资41亿美元获得了ASML公司15%的股份，对推动
EUV光刻制程也是最积极的，当然，Intel也是最有实力和财力的，首先应用EUV制程并不
意外。
备注:
AMD表示: