对不起，不知道在这里问适不适合，
不过真的满急的，我也不是本科，只好来求救...
制程中有一部份是微影技术，
其中有利用"相移式光罩(phase shift mask)"来提升原始图案转印在晶圆上的分辨率，
其中有一部份我看不太懂，
"有关于当罩幕上的原始图案间距/线宽比在3.0-6.5之间时，
外辅助图案和内辅助图案的配置方式。
习知技艺中当原始图案间距/线宽比大于6.5时，
会在每一个独立线条外侧配置辅助图案，
使其能获得充分的制程窗口(process window)，
一个充分的制程窗口能确保投影的影像线条与原图形线条一致。"
"当原始图案间距/线宽比小于3.0时，则仅在最外侧线条配置辅助图案，
在密度甚高的线条间并不配置辅助图案，
因为若在密度甚高的线条间配置辅助图案的话，
很容易就会产生sidelobe的问题或是增加罩幕误差因子。"
想请问各位，process window、sidelobe是什么意思...
还有配置所谓的辅助图案是利用什么原理减少上述的问题？
非常感谢解答