标题:中国芯片业恐再受打击 彭博：荷兰拟对ASML祭新限制
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中央社
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（中央社阿姆斯特丹29日综合外电报导）荷兰计划限制半导体生产设备制造商艾司摩尔（
ASML）在中国维修半导体设备的能力，可能对中国政府致力发展世界级芯片产业构成沉重
打击。
彭博（Bloomberg News）报导，据知情人士指出，艾司摩尔在中国提供服务和设备零组件
的某些许可将在今年底到期，荷兰总理史库夫（Dick Schoof）政府很可能不会续发许可
。相关决定预计涵盖艾司摩尔的顶级深紫外光曝光机（DUV）。因讨论敏感的政府决定，
知情人士要求匿名。
这家荷兰公司生产业界最先进芯片制造设备，设备出售也附带维持其正常运作必不可少的
维修协议。撤销这种支援可能导致至少部分设备最快明年就无法运作。
艾司摩尔和荷兰外贸部不予置评。
在美国施加若干压力后，荷兰政府才有相关决定。美国总统拜登政府高阶官员表示，华府
已经提出，如果那些盟友在对中国管制作为上跟美国不同调，不排除对伙伴国家实施某些
片面措施，包括在所谓“外国直接产品规则”（Foreign Direct Product Rule）。
“外国直接产品规则”让美国官员得以管制即使只运用极少量美国技术制造的外国产品流
向。荷兰、日本、韩国是美国之外最重要的芯片设备制造国。彭博曾报导，拜登政府扬言
运用这项规则让盟国就范。
荷兰前总理吕特（Mark Rutte）的政府抗拒美方在限制提供服务上的施压，要求给予更多
时间，评估出口限制对高阶芯片生产设备的影响。
史库夫曾任情报与安全总局（AIVD）局长，他领导的新政府早已表示会对中国采取谨慎态
度。他本月接受彭博访问时表示，与中国讨论国安议题必须“非常谨慎”。
被问到荷兰政府是否考虑今年实施新出口限制时，史库夫表示，他的政府与美国、日本“
协商顺利”，并且预期“最终会有好结果”。
报导指出，中国还无法开发出能够生产尖端半导体的类似设备，因此依靠艾司摩尔的浸润
式微影系统来推进芯片制造技术。中国也还买不到使用极紫外光微影技术（EUV）的艾司
摩尔最先进机器。这种设备用于生产苹果iPhone和辉达（NVIDIA）的人工智能（AI）产品
等业界最精密芯片。
如果没有艾司摩尔的DUV设备，中国科技巨擘华为及其合作伙伴中芯国际将越来越难以从
现有能力上取得突破，这些公司比居产业领导地位的台积电落后两代。荷兰的新限制也很
可能影响艾司摩尔的销售，该公司近半销售来自中国。（译者：何宏儒/核稿：陈政一）
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