Re: [新闻] 中国实现国产DUV曝光机 可生产8奈米

楼主: peter080808 (peter)   2024-09-15 17:12:16
晶圆直径300mm,照明波长248nm,分辨率≦65nm,套刻≦8nm
这是国际主流20-15年前的水准
勉强摸得到28nm制程水准
给各位点参考
套刻nm数乘以三大概就是能做到的极限
但28nm以上的制程是严重过剩
要用这个对抗台韩早就折旧玩的产线喔
中国政府还拿得出大量资金搞补贴吗?

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